Haberler

Tantal karbür (TAC) kaplama, yüksek sıcaklık direnci, korozyon direncini, mekanik özellikleri ve termal yönetim özelliklerini geliştirerek grafit parçalarının ömrünü önemli ölçüde genişletebilir. Yüksek saflık özellikleri safsızlık kontaminasyonunu azaltır, kristal büyüme kalitesini artırır ve enerji verimliliğini arttırır. Yarı iletken üretim ve kristal büyüme uygulamaları için yüksek sıcaklık, yüksek aşındırıcı ortamlarda uygundur.

Tantalum karbür (TAC) kaplamalar yarı iletken alanında, esas olarak epitaksiyal büyüme reaktör bileşenleri, tek kristal büyüme anahtar bileşenleri, yüksek sıcaklık endüstriyel bileşenleri, MOCVD sistem ısıtıcıları ve gofret taşıyıcılar için yaygın olarak kullanılır.

SIC epitaksiyal büyüme işlemi sırasında SIC kaplı grafit süspansiyon arızası meydana gelebilir. Bu makale, esas olarak iki faktör içeren SIC kaplı grafit süspansiyonunun başarısızlık fenomeninin titiz bir analizini yürütmektedir: SIC epitaksiyal gaz hatası ve SIC kaplama başarısızlığı.

Bu makale esas olarak Moleküler Işın Epitaksi prosesi ve Metal-organik kimyasal buhar biriktirme teknolojilerinin ilgili proses avantajlarını ve farklılıklarını tartışmaktadır.

VeTek Semiconductor'ın yeni nesil SiC kristal büyütme malzemesi olan Gözenekli Tantal Karbür, birçok mükemmel ürün özelliğine sahiptir ve çeşitli yarı iletken işleme teknolojilerinde önemli bir rol oynar.

Epitaksiyel fırının çalışma prensibi, yarı iletken malzemeleri yüksek sıcaklık ve yüksek basınç altında bir altlık üzerine biriktirmektir. Silikon epitaksiyel büyüme, belirli bir kristal oryantasyonuna sahip bir silikon tek kristal substrat üzerinde, substrat ile aynı kristal oryantasyonuna ve farklı kalınlığa sahip bir kristal tabakasının büyütülmesidir. Bu makale temel olarak silikon epitaksiyel büyüme yöntemlerini tanıtmaktadır: buhar fazı epitaksi ve sıvı faz epitaksi.