Haberler

Güneş fotovoltaik endüstrisinin geliştirilmesiyle, difüzyon fırınları ve LPCVD fırınları, güneş hücrelerinin verimli performansını doğrudan etkileyen güneş hücrelerinin üretimi için ana ekipmandır. Kapsamlı ürün performansı ve kullanım maliyetine dayanarak, silikon karbür seramik malzemelerinin güneş hücreleri alanında kuvars malzemelerinden daha fazla avantaj vardır. Silikon karbür seramik malzemelerinin fotovoltaik endüstrisinde uygulanması, fotovoltaik işletmelerin yardımcı malzeme yatırım maliyetlerini azaltmasına, ürün kalitesini ve rekabet gücünü artırmasına büyük ölçüde yardımcı olabilir. Fotovoltaik alandaki silikon karbür seramik malzemelerinin gelecekteki eğilimi esas olarak daha yüksek saflık, daha güçlü yük taşıma kapasitesi, daha yüksek yükleme kapasitesi ve daha düşük maliyete yöneliktir.

Makale, yarı iletken işleme sırasında SiC tek kristal büyümesi için CVD TaC kaplama prosesinin karşılaştığı malzeme kaynağı ve saflık kontrolü, proses parametre optimizasyonu, kaplama yapışması, ekipman bakımı ve proses stabilitesi, çevre koruma ve maliyet kontrolü gibi spesifik zorlukları analiz etmektedir. yanı sıra ilgili endüstri çözümleri.

SIC tek kristal büyümesinin uygulama perspektifinden bakıldığında, bu makale TAC kaplama ve SIC kaplamasının temel fiziksel parametrelerini karşılaştırır ve TAC kaplamanın SIC kaplamanın yüksek sıcaklık direnci, güçlü kimyasal stabilite, azaltılmış safsızlıklar ve temel avantajlarını açıklar. daha düşük maliyetler.

Fab fabrikasında birçok ölçüm ekipmanı türü vardır. Yaygın ekipman, litografi süreç ölçüm ekipmanı, dağlama işlemi ölçüm ekipmanı, ince film birikimi süreci ölçüm ekipmanı, doping işlemi ölçüm ekipmanı, CMP işlem ölçüm ekipmanı, gofret parçacık algılama ekipmanı ve diğer ölçüm ekipmanlarını içerir.

Tantal karbür (TAC) kaplama, yüksek sıcaklık direnci, korozyon direncini, mekanik özellikleri ve termal yönetim özelliklerini geliştirerek grafit parçalarının ömrünü önemli ölçüde genişletebilir. Yüksek saflık özellikleri safsızlık kontaminasyonunu azaltır, kristal büyüme kalitesini artırır ve enerji verimliliğini arttırır. Yarı iletken üretim ve kristal büyüme uygulamaları için yüksek sıcaklık, yüksek aşındırıcı ortamlarda uygundur.

Tantalum karbür (TAC) kaplamalar yarı iletken alanında, esas olarak epitaksiyal büyüme reaktör bileşenleri, tek kristal büyüme anahtar bileşenleri, yüksek sıcaklık endüstriyel bileşenleri, MOCVD sistem ısıtıcıları ve gofret taşıyıcılar için yaygın olarak kullanılır.