Ürünler

Silisyum Karbür Kaplama

VeTek Semiconductor, ultra saf Silisyum Karbür Kaplama ürünlerinin üretiminde uzmanlaşmıştır; bu kaplamalar, saflaştırılmış grafit, seramik ve refrakter metal bileşenlere uygulanacak şekilde tasarlanmıştır.


Yüksek saflıktaki kaplamalarımızın öncelikli olarak yarı iletken ve elektronik endüstrilerinde kullanılması hedeflenmektedir. Plaka taşıyıcıları, tutucular ve ısıtma elemanları için koruyucu bir katman görevi görerek onları MOCVD ve EPI gibi işlemlerde karşılaşılan aşındırıcı ve reaktif ortamlardan korurlar. Bu işlemler, levha işleme ve cihaz imalatının ayrılmaz bir parçasıdır. Ayrıca kaplamalarımız, yüksek vakum, reaktif ve oksijen ortamlarıyla karşılaşılan vakum fırınları ve numune ısıtma uygulamaları için de çok uygundur.


VeTek Semiconductor olarak gelişmiş makine atölyesi yeteneklerimizle kapsamlı bir çözüm sunuyoruz. Bu, temel bileşenleri grafit, seramik veya refrakter metaller kullanarak üretmemize ve SiC veya TaC seramik kaplamaları kendi bünyemizde uygulamamıza olanak sağlar. Ayrıca müşteri tarafından tedarik edilen parçalar için kaplama hizmetleri de sunarak farklı ihtiyaçları karşılama esnekliği sağlıyoruz.


Silisyum Karbür Kaplama ürünlerimiz Si ​​epitaksi, SiC epitaksi, MOCVD sistemi, RTP/RTA işlemi, aşındırma işlemi, ICP/PSS aşındırma işlemi, mavi ve yeşil LED, UV LED ve derin UV dahil olmak üzere çeşitli LED türlerinin işleminde yaygın olarak kullanılmaktadır. LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI ve benzerlerinin ekipmanlarına uyarlanan LED vb.


Yapabileceğimiz reaktör parçaları:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Silisyum Karbür Kaplamanın birçok benzersiz avantajı vardır:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



VeTek Yarı İletken Silisyum Karbür Kaplama Parametresi

CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri
Mülk Tipik Değer
Kristal Yapısı FCC β fazı çok kristalli, esas olarak (111) yönelimli
SiC kaplama Yoğunluk 3,21 g/cm³
SiC kaplamaSertlik 2500 Vickers sertliği (500g yük)
Tahıl Boyutu 2~10μm
Kimyasal Saflık %99,99995
Isı Kapasitesi 640 J·kg-1·K-1
Süblimleşme Sıcaklığı 2700°C
Eğilme Dayanımı 415 MPa RT 4 noktalı
Young Modülü 430 Gpa 4pt viraj, 1300°C
Isı İletkenliği 300W·m-1·K-1
Termal Genleşme (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC FİLM KRİSTAL YAPISI

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



Silicon Carbide coated Epi susceptor Silisyum Karbür kaplı Epi tutucu SiC Coating Wafer Carrier SiC Kaplama Gofret Taşıyıcı SiC coated Satellite cover for MOCVD MOCVD için SiC kaplı Uydu kapağı CVD SiC Coating Wafer Epi Susceptor CVD SiC Kaplama Gofret Epi Süseptör CVD SiC coating Heating Element CVD SiC kaplama Isıtma Elemanı Aixtron Satellite wafer carrier Aixtron Uydu levha taşıyıcısı SiC Coating Epi susceptor SiC Kaplama Epi alıcısı SiC coating halfmoon graphite parts SiC kaplama yarım ay grafit parçalar


View as  
 
LPE Reaksiyon Odası için Yarım Ay

LPE Reaksiyon Odası için Yarım Ay

Halfmoon, LPE SiC reaktörlerinde kullanılan ve çoğunlukla odanın sıcak bölgesinin çevresine monte edilen bir grafit bileşenidir. Plakayla doğrudan temas etmese de, epitaksiyel büyüme sırasında gaz akış stabilitesinde ve reaktörün çalışmasında hala bir rol oynar. Yüksek sıcaklık ve reaktif proses koşullarının üstesinden gelmek için bileşen genellikle CVD SiC kaplamayla korunurken, bazı uygulamalar için TaC kaplama da mevcuttur. VETEK ayrıca SiC epitaksi sistemleri için grafit keçe izolasyonu ve diğer kaplamalı grafit parçaları da tedarik etmektedir.
8 İnç CVD Silisyum Karbür (SiC) Kaplamalı Epitaksi Üst Halkası

8 İnç CVD Silisyum Karbür (SiC) Kaplamalı Epitaksi Üst Halkası

8 inçlik SiC epi üst halkası, yarı iletken reaktörlere yönelik bir donanım parçasıdır. Si/SiC epitaksi ve MOCVD/CVD sistemlerinde çalışır. Bu halka odanın içindeki ısıyı dengeler. Aynı zamanda gaz akışını da kontrol eder. Malzeme yüksek saflıkta CVD Silisyum Karbürdür. Grafitin gaz çıkarma sorunları yoktur. Ayrıca üretim sırasında partikül kontaminasyonunu da azaltır. Sorularınızı memnuniyetle karşılarız.
MOCVD SiC Kaplamalı Süseptör

MOCVD SiC Kaplamalı Süseptör

VETEK MOCVD SiC Kaplamalı Susceptor, özellikle LED ve bileşik yarı iletken epitaksiyel büyüme için geliştirilmiş, hassas şekilde tasarlanmış bir taşıyıcı çözümüdür. Karmaşık MOCVD ortamlarında olağanüstü termal homojenlik ve kimyasal inertlik gösterir. VETEK'in zorlu CVD biriktirme sürecinden yararlanarak, levha büyüme tutarlılığını artırmaya ve temel bileşenlerin hizmet ömrünü uzatmaya, yarı iletken üretiminizin her partisi için istikrarlı ve güvenilir performans güvencesi sağlamaya kendimizi adadık.
Katı Silikon Karbür Odaklama Halkası

Katı Silikon Karbür Odaklama Halkası

Veteksemicon Katı Silisyum Karbür (SiC) Odaklama Halkası, plazma dağılımının, termal homojenliğin ve levha kenar efektlerinin hassas kontrolünün gerekli olduğu ileri yarı iletken epitaksi ve plazma aşındırma işlemlerinde kullanılan kritik bir sarf malzemesi bileşenidir. Yüksek saflıkta katı silisyum karbürden üretilen bu odaklama halkası, olağanüstü plazma erozyon direnci, yüksek sıcaklık stabilitesi ve kimyasal eylemsizlik sergileyerek agresif proses koşulları altında güvenilir performans sağlar. Soruşturmanızı sabırsızlıkla bekliyoruz.
SiC kaplı epitaksiyel reaktör odası

SiC kaplı epitaksiyel reaktör odası

Veteksemicon SiC Kaplamalı Epitaksiyel Reaktör odası, zorlu yarı iletken epitaksiyel büyüme süreçleri için tasarlanmış bir çekirdek bileşendir. Gelişmiş kimyasal buhar biriktirme (CVD) kullanan bu ürün, yüksek mukavemetli bir grafit alt tabaka üzerinde yoğun, yüksek saflıkta bir SiC kaplama oluşturarak üstün yüksek sıcaklık stabilitesi ve korozyon direnci sağlar. Yüksek sıcaklıktaki proses ortamlarında reaktif gazların aşındırıcı etkilerine etkili bir şekilde direnç gösterir, partikül kirliliğini önemli ölçüde bastırır, tutarlı epitaksiyel malzeme kalitesi ve yüksek verim sağlar ve reaksiyon odasının bakım döngüsünü ve ömrünü önemli ölçüde uzatır. SiC ve GaN gibi geniş bant aralıklı yarı iletkenlerin üretim verimliliğini ve güvenilirliğini artırmak için önemli bir seçimdir.
EPI Alıcı Parçaları

EPI Alıcı Parçaları

Silisyum karbür epitaksiyel büyümenin temel sürecinde Veteksemicon, suseptör performansının epitaksiyel katmanın kalitesini ve üretim verimliliğini doğrudan belirlediğinin bilincindedir. SiC alanı için özel olarak tasarlanan yüksek saflıkta EPI sensörlerimiz, özel bir grafit alt tabaka ve yoğun bir CVD SiC kaplama kullanır. Üstün termal kararlılıkları, mükemmel korozyon direnci ve son derece düşük parçacık üretim hızıyla, zorlu yüksek sıcaklıktaki proses ortamlarında bile müşteriler için benzersiz kalınlık ve katkılama eşitliği sağlarlar. Veteksemicon'u seçmek, gelişmiş yarı iletken üretim süreçleriniz için güvenilirlik ve performansın temel taşını seçmek anlamına gelir.
Çin'de profesyonel bir Silisyum Karbür Kaplama üretici ve tedarikçi olarak kendi fabrikamız var. İster bölgenizin özel ihtiyaçlarını karşılamak için özelleştirilmiş hizmetlere ihtiyacınız olsun, ister Çin'de yapılan gelişmiş ve dayanıklı Silisyum Karbür Kaplama satın almak istiyorsanız, bize bir mesaj bırakabilirsiniz.
X
Size daha iyi bir gezinme deneyimi sunmak, site trafiğini analiz etmek ve içeriği kişiselleştirmek için çerezleri kullanıyoruz. Bu siteyi kullanarak çerez kullanımımızı kabul etmiş olursunuz. Gizlilik Politikası
Reddetmek Kabul etmek