Ürünler
Yüksek Saflıkta CVD SiC Kaplamalı Gofret Teknesi
  • Yüksek Saflıkta CVD SiC Kaplamalı Gofret TeknesiYüksek Saflıkta CVD SiC Kaplamalı Gofret Teknesi

Yüksek Saflıkta CVD SiC Kaplamalı Gofret Teknesi

Difüzyon, Oksidasyon veya LPCVD gibi gelişmiş imalatlarda, levha teknesi yalnızca bir tutucu değildir; termal ortamın kritik bir parçasıdır. 1000°C ile 1400°C arasındaki sıcaklıklarda standart malzemeler genellikle bükülme veya gaz çıkışı nedeniyle başarısız olur. VETEK'in SiC-on-SiC çözümü (yoğun CVD kaplamalı yüksek saflıkta alt tabaka), bu yüksek ısı değişkenlerini stabilize etmek için özel olarak tasarlanmıştır.

1. Temel Performans Faktörleri?

  • 7N Düzeyinde Saflık:%99,99999 (7N) saflık standardını koruyoruz. Uzun sürme veya oksidasyon adımları sırasında metal kirleticilerin levhaya geçmesini önlemek için bu tartışılamaz.
  • CVD Mührü (50–300μm):Biz sadece yüzeyi "boyamıyoruz". 50–300μm CVD SiC katmanımız alt tabaka üzerinde tam bir yalıtım oluşturur. Bu, gözenekliliği ortadan kaldırır, yani tekne, reaktif gazlara tekrar tekrar maruz kaldıktan veya agresif SPM/DHF temizliğinden sonra bile kimyasalları tutmayacak veya parçacık saçmayacak anlamına gelir.
  • Termal Sertlik:Silisyum Karbürün doğal düşük termal genleşmesi bu teknelerin düz durmasını sağlar. Hızlı Termal Tavlama (RTA) sırasında sarkmayacak veya bükülmeyecekler ve robot kolunun sıkışmadan her zaman doğru yuvaya çarpmasını sağlayacaklar.
  • Sürdürülebilir Verim:Yüzey düşük yan ürün yapışması için tasarlanmıştır. Daha az birikme, levhalarınıza daha az parçacık çarpması ve ıslak tezgah temizleme döngüleri arasında daha fazla işlem yapılması anlamına gelir.
  • Özel Geometri:Her fabrikanın kendi düzeni vardır. İster yatay bir fırın ister dikey 300 mm'lik otomatik bir hat çalıştırıyor olun, bunları özel Pitch ve Slot çizimlerinize göre işliyoruz.

2. Süreç Uyumluluğu

  • Atmosfer:TMGa, AsH₃ ve yüksek konsantrasyonlu O₂ ortamlarına dayanıklıdır.
  • Termal Aralık:1400°C'ye kadar uzun süreli kararlı çalışma.
  • Malzemeler:Mantık, Güç ve Analog levhaların oksidasyon ve difüzyon işlemleri için özel olarak tasarlanmıştır.


3. Teknik Özellikler
Fözellik
Veri
Malzeme Tabanı
Yüksek Saflıkta SiC + Yoğun CVD SiC
Saflık Derecesi
7N (≥ 99,99999%)
Kaplama Aralığı
50μm – 300μm (Teknik özelliklere göre)
Uyumluluk
4", 6", 8", 12" Gofretler
Temizlik
SPM / DHF Uyumlu


Sıcak Etiketler: Yüksek Saflıkta CVD SiC Kaplamalı Gofret Teknesi | Vetek Yarıiletken
Talep Gönder
İletişim bilgileri
Silisyum Karbür Kaplama, Tantal Karbür Kaplama, Özel Grafit veya fiyat listesi ile ilgili sorularınız için lütfen e-posta adresinizi bize bırakın, 24 saat içinde sizinle iletişime geçeceğiz.
X
Size daha iyi bir gezinme deneyimi sunmak, site trafiğini analiz etmek ve içeriği kişiselleştirmek için çerezleri kullanıyoruz. Bu siteyi kullanarak çerez kullanımımızı kabul etmiş olursunuz. Gizlilik Politikası
Reddetmek Kabul etmek