Ön Isıtma Halkası

Ön Isıtma Halkası, yarı iletken üretiminde epitaksiyel (EPI) işlem için özel olarak tasarlanmış önemli bir ekipmandır. EPI işleminden önce levhaları önceden ısıtmak için kullanılır, böylece epitaksiyel büyüme boyunca sıcaklık stabilitesi ve tekdüzelik sağlanır.

Vetek Semiconductor tarafından üretilen EPI Pre Heat Ring'imiz birkaç önemli özellik ve avantaj sunar. İlk olarak, gofret yüzeyine hızlı ve düzgün ısı transferine izin veren yüksek termal iletkenlik malzemeleri kullanılarak inşa edilir. Bu, sıcak noktaların ve sıcaklık gradyanlarının oluşumunu önler, tutarlı biriktirme sağlar ve epitaksiyal tabakanın kalitesini ve homojenliğini iyileştirir. Ek olarak EPI Ön Isıtma Halkamız, ön ısıtma sıcaklığının hassas ve tutarlı kontrolünü sağlayan gelişmiş bir sıcaklık kontrol sistemi ile donatılmıştır. Bu kontrol düzeyi, EPI işlemi sırasında kristal büyümesi, malzeme birikmesi ve arayüzey reaksiyonları gibi önemli adımların doğruluğunu ve tekrarlanabilirliğini artırır.

Dayanıklılık ve güvenilirlik, ürün tasarımımızın temel unsurlarıdır. EPI Ön Isıtma Halkası, yüksek sıcaklıklara ve çalışma basınçlarına dayanacak, uzun süreler boyunca stabiliteyi ve performansı koruyacak şekilde üretilmiştir. Bu tasarım yaklaşımı, bakım ve değiştirme maliyetlerini azaltarak uzun vadeli güvenilirlik ve operasyonel verimlilik sağlar. EPI öncesi ısı halkasının kurulumu ve çalışması, ortak EPI ekipmanı ile uyumlu olduğu için basittir. Kullanıcı dostu bir gofret yerleşimi ve erişim mekanizmasına sahiptir, kolaylığı ve operasyonel verimliliği artırır.

VeTek Semiconductor'da ayrıca özel müşteri gereksinimlerini karşılamak için özelleştirme hizmetleri de sunuyoruz. Bu, EPI Ön Isıtma Halkasının boyutunun, şeklinin ve sıcaklık aralığının benzersiz üretim ihtiyaçlarına göre uyarlanmasını içerir. Epitaksiyal büyüme ve yarı iletken cihaz üretiminde yer alan araştırmacılar ve üreticiler için, Vetek yarı iletken tarafından EPI öncesi ısı halkası olağanüstü performans ve güvenilir destek sağlar. Yüksek kaliteli epitaksiyal büyümenin elde edilmesi ve verimli yarı iletken cihaz üretim süreçlerini kolaylaştırmada kritik bir araç görevi görür.

CVD sic filminin SEM verileri