Kimyasal Buhar Biriktirme İşlemi Katı Sic Edge Halkası

CVD işlemi Katı SIC Kenar Halkası:

● Malzeme: Odaklanma halkası, yüksek saflık ve yüksek performanslı seramik malzeme olan katı sic'ten üretilmiştir. Kimyasal buhar birikimi ile hazırlanır. Katı SIC malzemesi olağanüstü dayanıklılık, yüksek sıcaklık direnci ve mükemmel mekanik özellikler sağlar.

●  Avantajlar: CVD SIC halka, kuru aşınma işlemlerinde karşılaşılan yüksek sıcaklık koşullarında bile yapısal bütünlüğünü koruyarak olağanüstü termal stabilite sunar. Yüksek sertliği, mekanik stres ve aşınmaya karşı direnç sağlar ve bu da uzun hizmet ömrüne yol açar. Ayrıca, katı SIC kimyasal inertlik sergiler, korozyondan korur ve zaman içinde performansını korur.

CVD sic kaplama:

●  Malzeme: CVD SIC kaplama, kimyasal buhar birikimi (CVD) teknikleri kullanılarak SIC'nin ince bir film birikimidir. Kaplama, yüzeye SIC özellikleri sağlamak için grafit veya silikon gibi bir substrat malzemesine uygulanır.

●  Karşılaştırmak: CVD SIC kaplamaları, karmaşık şekillerde ve ayarlanabilir film özelliklerine uygun biriktirme gibi bazı avantajlar sunarken, katı sic'in sağlamlığını ve performansıyla eşleşmeyebilirler. Kaplama kalınlığı, kristal yapı ve yüzey pürüzlülüğü, kaplamanın dayanıklılığını ve genel performansını potansiyel olarak etkileyerek CVD işlem parametrelerine göre değişebilir.

Özetle, Vetek yarı iletken katı SIC odaklama halkası kuru aşındırma uygulamaları için olağanüstü bir seçimdir. Katı SIC malzemesi, yüksek sıcaklık direnci, mükemmel sertlik ve kimyasal inertlik sağlar, bu da onu güvenilir ve uzun ömürlü bir çözüm haline getirir. CVD SIC kaplama biriktirme esnekliği sunarken, CVD SIC halkası, kuru aşınma işlemleri talep etmek için gerekli olan eşsiz dayanıklılık ve performansı sağlamada mükemmeldir.

Katı sic'in fiziksel özellikleri