Katı SiC Gaz Duş Başlığı

Katı SiC Gaz Duş Başlığı

VeTek Semiconductor araştırma, üretim ve satışa adanmış entegre bir şirkettir. VeTek Semiconductor, uzun yıllardır yarı iletken epitaksi, aşındırma ve diğer prosesle ilgili ürünler üzerinde çalışmaktadır; özellikle CVD SiC kaplama, CVD TaC kaplama ve CVD Solid SiC amiral gemisi ürünlerimizdir.

Vetek yarı iletken katı sic gaz duş başlığı, yarı iletken CVD işlemleri sırasında öncü gazları substrat yüzeyine eşit olarak dağıtmak için yaygın olarak kullanılır. Duş başlıkları için CVD-SIC materyali kullanmak çeşitli avantajlar sunar. Yüksek termal iletkenliği, CVD işleminde üretilen ısıyı dağıtmaya yardımcı olarak substratta homojen sıcaklık dağılımı sağlar. Ek olarak, CVD SIC duş kafasının kimyasal stabilitesi, CVD işlemlerinde yaygın olarak karşılaşılan aşındırıcı gazlara ve sert ortamlara dayanmasını sağlar. 

CVD SiC duş başlıklarının tasarımı, belirli CVD sistemlerine ve proses gereksinimlerine göre uyarlanabilir. Bununla birlikte, genellikle bir dizi hassas delinmiş delik veya yarığa sahip plaka veya disk şeklinde bir bileşenden oluşurlar. Delik deseni ve geometrisi, alt tabaka yüzeyi üzerinde eşit gaz dağılımı ve akış hızı sağlayacak şekilde dikkatlice tasarlanmıştır.

Katı sic'in fiziksel özellikleri