Haberler

Makale, yarı iletken işleme sırasında SiC tek kristal büyümesi için CVD TaC kaplama prosesinin karşılaştığı malzeme kaynağı ve saflık kontrolü, proses parametre optimizasyonu, kaplama yapışması, ekipman bakımı ve proses stabilitesi, çevre koruma ve maliyet kontrolü gibi spesifik zorlukları analiz etmektedir. yanı sıra ilgili endüstri çözümleri.

SIC tek kristal büyümesinin uygulama perspektifinden bakıldığında, bu makale TAC kaplama ve SIC kaplamasının temel fiziksel parametrelerini karşılaştırır ve TAC kaplamanın SIC kaplamanın yüksek sıcaklık direnci, güçlü kimyasal stabilite, azaltılmış safsızlıklar ve temel avantajlarını açıklar. daha düşük maliyetler.

Fab fabrikasında birçok ölçüm ekipmanı türü vardır. Yaygın ekipman, litografi süreç ölçüm ekipmanı, dağlama işlemi ölçüm ekipmanı, ince film birikimi süreci ölçüm ekipmanı, doping işlemi ölçüm ekipmanı, CMP işlem ölçüm ekipmanı, gofret parçacık algılama ekipmanı ve diğer ölçüm ekipmanlarını içerir.

Tantal karbür (TAC) kaplama, yüksek sıcaklık direnci, korozyon direncini, mekanik özellikleri ve termal yönetim özelliklerini geliştirerek grafit parçalarının ömrünü önemli ölçüde genişletebilir. Yüksek saflık özellikleri safsızlık kontaminasyonunu azaltır, kristal büyüme kalitesini artırır ve enerji verimliliğini arttırır. Yarı iletken üretim ve kristal büyüme uygulamaları için yüksek sıcaklık, yüksek aşındırıcı ortamlarda uygundur.