Ürünler
ALD Gezegensel Süseptör
  • ALD Gezegensel SüseptörALD Gezegensel Süseptör
  • ALD Gezegensel SüseptörALD Gezegensel Süseptör
  • ALD Gezegensel SüseptörALD Gezegensel Süseptör
  • ALD Gezegensel SüseptörALD Gezegensel Süseptör

ALD Gezegensel Süseptör

ALD işlemi, atomik katman epitaksi işlemi anlamına gelir. Vetek Semiconductor ve ALD sistemi üreticileri, hava akışını substrat üzerinde eşit olarak dağıtmak için ALD sürecinin yüksek gereksinimlerini karşılayan SIC kaplamalı ALD gezegensel duyucuları geliştirmiş ve üretmiştir. Aynı zamanda, Vetek Semiconductor’ın Yüksek Saflıklı CVD SIC kaplaması, süreçte saflığı sağlar. Bizimle işbirliğini tartışmaya hoş geldiniz.

Profesyonel üretici olarak, Vetek Semiconductor size SIC kaplamalı Ald Planet Sensceptor'u sağlamak istiyor.

Atomik Katman Epitaksi olarak bilinen ALD işlemi, ince film biriktirme teknolojisinde hassasiyetin zirvesi olarak duruyor. Vetek Semiconductor, önde gelen ALD sistem üreticileriyle işbirliği içinde, son teknoloji ürünü SiC kaplı ALD Gezegensel süseptörlerin geliştirilmesine ve üretilmesine öncülük etmiştir. Bu yenilikçi suseptörler, ALD sürecinin zorlu taleplerini karşılamak üzere titizlikle tasarlanmış olup, hava akışının alt tabaka boyunca benzersiz bir doğruluk ve verimlilikle eşit şekilde dağıtılmasını sağlar.

Üstelik Vetek Semiconductor'ın mükemmelliğe olan bağlılığı, her bir biriktirme döngüsünün başarısı için hayati önem taşıyan bir saflık seviyesini garanti eden yüksek saflıkta CVD SiC kaplamaların kullanımıyla özetlenebilir. Kaliteye olan bu bağlılık yalnızca süreç güvenilirliğini arttırmakla kalmaz, aynı zamanda çeşitli uygulamalardaki ALD süreçlerinin genel performansını ve tekrarlanabilirliğini de artırır.


ALD System


ALD Teknolojisinin Avantajlarına Genel Bakış:

Hassas Kalınlık Kontrolü: Biriktirme döngülerini kontrol ederek mükemmel tekrarlanabilirlik ile nanometre film kalınlığına ulaşın.

Yüzey Pürüzsüzlüğü: Mükemmel 3D uygunluğu ve %100 adım kapsamı, alt tabaka eğimini tamamen takip eden pürüzsüz kaplamalar sağlar.

Geniş Uygulanabilirlik: Hassas yüzeyler için uygun, gofretlerden tozlara kadar çeşitli nesneler üzerine kaplanabilir.

Özelleştirilebilir Malzeme Özellikleri: Oksitler, nitrürler, metaller vb. için malzeme özelliklerinin kolayca özelleştirilmesi.

Geniş Proses Penceresi: Mükemmel kaplama kalınlığı homojenliği ile parti üretimine elverişli sıcaklık veya öncü varyasyonlarına duyarsızlık.

Sizi potansiyel işbirliklerini ve ortaklıklarını keşfetmek için bizimle bir diyalog kurmaya davet ediyoruz. Birlikte, yeni olasılıkların kilidini açabilir ve ince film biriktirme teknolojisi alanında yeniliği artırabiliriz.


CVD SIC kaplamanın temel fiziksel özellikleri:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE

CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri
Mülk Tipik değer
Kristal Yapısı FCC β faz polikristalin, esas olarak (111) yönelimli
Yoğunluk 3,21 g/cm³
Sertlik 2500 Vickers sertliği (500g yük)
Tane Boyutu 2 ~ 10mm
Kimyasal saflık %99,99995
Isı kapasitesi 640 j · kg-1· K-1
Süblimleşme Sıcaklığı 2700°C
Eğilme Dayanımı 415 MPa RT 4 noktalı
Young Modülü 430 Gpa 4nokta viraj, 1300°C
Isı İletkenliği 300W · m-1· K-1
Termal Genleşme (CTE) 4,5×10-6K-1

Üretim mağazaları:

VeTek Semiconductor Production Shop


Yarıiletken çip epitaksi endüstri zincirine genel bakış:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


Sıcak Etiketler: ALD Gezegensel Süseptör
Talep Gönder
İletişim bilgileri
Silisyum Karbür Kaplama, Tantal Karbür Kaplama, Özel Grafit veya fiyat listesi ile ilgili sorularınız için lütfen e-posta adresinizi bize bırakın, 24 saat içinde sizinle iletişime geçeceğiz.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept