Üstün Ald

Profesyonel olarakÜstün AldÇin'de üretici, ürünümüzÜstün Aldkesin sıcaklık kontrolü, düzgün gaz dağılımı ve mükemmel termal iletkenlik ve diğer ürün özellikleriÜstün AldAtomik tabaka birikimi (ALD) sürecinde önemli bir rol oynar. Önemli rol, danışmanlığınıza hoş geldiniz.

Tek tip ince film birikimi: ALD Seansor, atomik tabaka birikimi (ALD) işlemi sırasında atomik tabakaların tüm gofret yüzeyi üzerinde düzgün birikmesini sağlar. Eşsiz dönen tasarımı, gazların ve reaktanların gofret yüzeyine eşit olarak temas etmesini sağlar ve bu da düzgün film kalınlığına neden olur. Bu, yüksek hassasiyetli yarı iletken üretimi için kritiktir.

Biriktirme kalitesini iyileştirin: Sıcaklık kontrolü ve gaz dağılımını optimize ederek, ALD Sinekçisi film kalitesini ve performansını önemli ölçüde artırarak kusurları ve tekdüzeliksizliği azaltır. Bu, yüksek hassasiyetli yarı iletken ve elektronik cihaz üretimi için idealdir, bu da ürün güvenilirliği ve performans sağlar.

Çoklu waser işlemeyi destekler: Bazı ALD Sinkör tasarımları, birden fazla gofretin aynı anda işlenmesine izin vererek üretim verimliliğini artırır. Bu, özellikle büyük ölçekli üretim ihtiyaçlarını karşılayabilen yüksek verimli üretim ortamları için önemlidir.

Farklı boyut ve gofret türlerini barındırır: ALD duyucular genellikle yüksek uyumluluk için tasarlanmıştır ve farklı boyut ve gofret türlerini destekleyebilir. Bu, daha fazla esneklik ve uyarlanabilirlik sağlayarak çeşitli üretim süreçlerinde etkili olur.

Üretim maliyetlerini azaltın: Etkili gaz dağılımı ve düzgün ısıtma yetenekleri nedeniyle, ALD Sdensör biriktirme işleminin verimliliğini arttırır, böylece malzeme atıklarını ve üretim maliyetlerini azaltır. Bu sadece üretim verimliliğini artırmaya yardımcı olmakla kalmaz, aynı zamanda üretim maliyetlerini de önemli ölçüde azaltır.

CVD SIC kaplamanın temel fiziksel özellikleri:

Üretim Mağazaları:

Yarıiletken çip epitaksi endüstri zincirine genel bakış：