Sic kaplama ALD suyunu

YarıiletkenSic kaplama ALD suyunuatomik tabaka birikiminde hayati bir rol oynar (ALD) işlem. Kesin sıcaklık kontrolü, düzgün gaz dağılımı, yüksek kimyasal direnç ve mükemmel termal iletkenlik, film biriktirme sürecinin tekdüzeliğini ve yüksek kalitesini sağlar. Daha fazla bilgi edinmek istiyorsanız, hemen bize danışabilirsiniz ve size zamanında cevap verelim!

Kesin sıcaklık kontrolü:

SIC kaplama ALD suyunun genellikle yüksek hassasiyetli bir sıcaklık kontrol sistemi vardır. Biriktirme işlemi boyunca, filmin tekdüzeliğini ve kalitesini sağlamak için çok önemli olan tek tip bir sıcaklık ortamı koruyabilir.

Tek tip gaz dağılımı:

SIC kaplama ALD Stensor'un optimize edilmiş tasarımı, ALD biriktirme işlemi sırasında gazın eşit dağılımını sağlar. Yapısı genellikle tüm gofret yüzeyinde reaktif gazların düzgün bir şekilde kapsama alanını teşvik etmek için çoklu dönen veya hareketli parçalar içerir.

Yüksek kimyasal direnç:

ALD işlemi çeşitli kimyasal gazları içerdiğinden, kimyasal gazların erozyonuna ve yüksek sıcaklık ortamlarının etkisine direnmek için genellikle korozyona dirençli malzemelerden (platin, seramik veya yüksek saflık kuvars gibi) yapılır.

Mükemmel termal iletkenlik:

Isıyı etkili bir şekilde yürütmek ve kararlı bir birikme sıcaklığını korumak için, SIC kaplama ALD duyucuları genellikle yüksek termal iletkenlik malzemeleri kullanır. Bu, yerel aşırı ısınma ve eşit olmayan birikimden kaçınmaya yardımcı olur.

CVD SIC kaplamanın temel fiziksel özellikleri:

Üretim Mağazaları:

Yarıiletken çip epitaksi endüstri zincirine genel bakış：