Destek Hizmeti

VeTek Semiconductor, yeni nesil ultra geniş bant aralıklı yarı iletken cihazlar için yüksek kaliteli Alüminyum Nitrür (AlN) tek kristal levhalar ve alt tabakalar sağlar. Yaklaşık 6,2 eV'lik ultra geniş bant aralığı, olağanüstü ısı iletkenliği, olağanüstü elektrik yalıtımı ve GaN ile mükemmel kafes ve termal genleşme uyumuyla AlN levhalar, yüksek güçlü RF cihazları, yüksek voltajlı güç elektroniği ve derin ultraviyole (DUV) optoelektronik için idealdir.

CVD SiC Kaplamalı Grafit Parçalar için VETEK Profesyonel Temizlik Hizmeti, GaN / AlN / AlGaN epitaksiyel proseslerinde kullanılan Aixtron / Veeco MOCVD ekipman tutucuları ve grafit bileşenleri için tasarlanmış özel bir teknik servistir. Tescilli temizleme sürecimiz, yüzey hafıza etkisini tamamen ortadan kaldırır, reaktördeki sabit gaz akışını geri kazandırır ve 100 µm CVD SiC kaplamayı mutlak sıfır kalınlık kaybı ve sıfır metal kalıntısıyla sıkı bir şekilde korur.

5G iletişimlerinin, hassas tıbbi cihazların ve akıllı giyilebilir cihazların genişlemesiyle yüksek hassasiyetli ve düşük güçlü MEMS dönüştürücülere olan talep arttıkça, Si/SOI yonga levhalarımız üzerindeki PZT kritik bir malzeme çözümü sağlıyor. Sol-jel veya püskürtme gibi gelişmiş ince film biriktirme süreçlerini kullanarak, silikon yüzeyler üzerinde olağanüstü tutarlılık ve üstün piezoelektrik performans elde ediyoruz. Bu levhalar elektromekanik enerji dönüşümü için temel çekirdek görevi görür.

Silisyum karbür kristal büyümesi, yüksek performanslı yarı iletken cihazların üretiminde temel bir süreçtir. Kristal büyütme ekipmanının stabilitesi, hassasiyeti ve uyumluluğu, silisyum karbür külçelerin kalitesini ve verimini doğrudan belirler. Veteksemi, Fiziksel Buhar Aktarımı (PVT) teknolojisinin özelliklerine dayanarak, iletken, yarı yalıtkan ve N tipi malzeme sistemleriyle tam uyumlulukla 6 inç, 8 inç ve 12 inç silisyum karbür kristallerinin istikrarlı bir şekilde büyümesini sağlayan silisyum karbür kristal büyümesi için bir dirençli ısıtma fırını geliştirdi. Sıcaklık, basınç ve gücün hassas kontrolü sayesinde, EPD (Etch Pit Density) ve BPD (Bazal Düzlem Dislokasyonu) gibi kristal kusurlarını etkili bir şekilde azaltırken, düşük enerji tüketimi ve endüstriyel büyük ölçekli üretimin yüksek standartlarını karşılayacak kompakt bir tasarıma sahiptir.

CMP parlatma bulamacı (Kimyasal Mekanik Parlatma Bulamacı), yarı iletken üretiminde ve hassas malzeme işlemede kullanılan yüksek performanslı bir malzemedir. Temel işlevi, nano düzeyde düzlük ve yüzey kalitesi gereksinimlerini karşılamak için kimyasal korozyon ve mekanik taşlamanın sinerjik etkisi altında malzeme yüzeyinin ince düzlüğünü ve parlatılmasını sağlamaktır. Daha fazla danışmanızı sabırsızlıkla bekliyorum.

Önde gelen Çinli SIC gofret üreticileri ve tedarikçileri olarak, Vetek yarı iletken CVD kaplama kukla gofret, yarı iletken üretiminde, esas olarak silikon gofret testi ve gofret test süreci amacıyla kullanılan özel bir araçtır. Diğer sorularınız kabul edilir.