CVD sic kaplı etek

Vetek Semiconductor, Çin'de CVD SIC kaplı etek için profesyonel bir üreticidir.

Aixtron Equipment'ın derin ultraviyole epitaksi teknolojisi, yarı iletken üretiminde önemli bir rol oynamaktadır. Bu teknoloji, gofret performansı ve fonksiyonunun kesin kontrolünü sağlamak için epitaksiyal büyüme yoluyla gofretin yüzeyine çeşitli malzemeleri biriktirmek için derin bir ultraviyole ışık kaynağı kullanır. Derin ultraviyole epitaksi teknolojisi, LED'lerden yarı iletken lazerlere kadar çeşitli elektronik cihazların üretimini kapsayan çok çeşitli uygulamalarda kullanılır.

Bu süreçte, CVD SIC kaplı etek kilit bir rol oynar. Epitaksiyal büyüme sırasında homojenlik ve stabilite sağlamak için epitaksiyal tabakayı desteklemek ve epitaksiyal tabakayı döndürmek için tasarlanmıştır. Grafit suyunun dönüş hızını ve yönünü tam olarak kontrol ederek, epitaksiyal taşıyıcının büyüme süreci doğru bir şekilde kontrol edilebilir.

Ürün, mükemmel performans ve uzun hizmet ömrü sağlayan yüksek kaliteli grafit ve silisyum karbür kaplamadan yapılmıştır. İthal grafit malzeme, ürünün çeşitli çalışma ortamlarında iyi performans gösterebilmesi için stabilitesini ve güvenilirliğini sağlar. Kaplama açısından, kaplamanın tekdüzeliğini ve stabilitesini sağlamak için 5 ppm'den daha düşük bir silisyum karbür malzemesi kullanılır. Aynı zamanda, yeni süreç ve grafit malzemenin termal genleşme katsayısı iyi bir uyum oluşturarak ürünün yüksek sıcaklık direncini ve termal şok direncini artırır, böylece yüksek sıcaklık ortamında hala istikrarlı performansı koruyabilir.

CVD SiC Kaplamalı Eteğin temel fiziksel özellikleri:

Vetek Semiconductor CVD SIC Kaplı Etek Ürünleri Mağazalar:

Yarı iletken çip epitaksi endüstri zincirine genel bakış: