MOCVD EPI SUSCEPTER

Yarım'SMOCVD EPI SUSCEPTERtemel bir bileşendir. Yarı iletken cihazların hazırlama işleminde,MOCVD EPI SUSCEPTERsadece basit bir ısıtma platformu değil, aynı zamanda ince film malzemelerinin kalitesi, büyüme oranı, tekdüzeliği ve diğer yönleri üzerinde derin bir etkisi olan hassas bir işlem aracıdır.

Özel kullanımlarıMOCVD EPI SUSCEPTERYarı iletken işleme aşağıdaki gibidir:

● Substrat ısıtma ve tekdüzelik kontrolü:

MOCVD epitaksi duyucu, epitaksiyal büyüme sırasında substratın stabil sıcaklığını sağlamak için düzgün ısıtma sağlamak için kullanılır. Bu, yüksek kaliteli yarı iletken filmler elde etmek ve substrat boyunca epitaksiyal katmanların kalınlığı ve kristal kalitesinde tutarlılık sağlamak için gereklidir.

● Kimyasal buharlı biriktirme (CVD) reaktör odaları için destek:

CVD reaktöründe önemli bir bileşen olarak, Sindancı metal organik bileşiklerin substratlar üzerinde birikmesini destekler. İstenen yarı iletken malzemeleri oluşturmak için bu bileşikleri katı filmlere doğru bir şekilde dönüştürmeye yardımcı olur.

● Gaz dağılımını teşvik edin:

Suyu tasarımı, reaksiyon odasındaki gazların akış dağılımını optimize edebilir, bu da reaksiyon gazının substratı eşit olarak temas etmesini sağlayabilir, böylece epitaksiyal filmlerin homojenliğini ve kalitesini iyileştirir.

Özelleştirilmiş satın almak için emin olabilirsinizMOCVD EPI SUSCEPTERBizden sizinle işbirliği yapmayı dört gözle bekliyoruz. Daha fazla bilgi bilmek istiyorsanız, hemen bize danışabilirsiniz ve size zamanında cevap vereceğiz!

CVD SIC kaplamanın temel fiziksel özellikleri:

Üretim Mağazaları:

Yarıiletken çip epitaksi endüstri zincirine genel bakış：