Ürünler

Silisyum Karbür Kaplama

VeTek Semiconductor, ultra saf Silisyum Karbür Kaplama ürünlerinin üretiminde uzmanlaşmıştır; bu kaplamalar, saflaştırılmış grafit, seramik ve refrakter metal bileşenlere uygulanacak şekilde tasarlanmıştır.


Yüksek saflıktaki kaplamalarımızın öncelikli olarak yarı iletken ve elektronik endüstrilerinde kullanılması hedeflenmektedir. Plaka taşıyıcıları, tutucular ve ısıtma elemanları için koruyucu bir katman görevi görerek onları MOCVD ve EPI gibi işlemlerde karşılaşılan aşındırıcı ve reaktif ortamlardan korurlar. Bu işlemler, levha işleme ve cihaz imalatının ayrılmaz bir parçasıdır. Ayrıca kaplamalarımız, yüksek vakum, reaktif ve oksijen ortamlarıyla karşılaşılan vakum fırınları ve numune ısıtma uygulamaları için de çok uygundur.


VeTek Semiconductor olarak gelişmiş makine atölyesi yeteneklerimizle kapsamlı bir çözüm sunuyoruz. Bu, temel bileşenleri grafit, seramik veya refrakter metaller kullanarak üretmemize ve SiC veya TaC seramik kaplamaları kendi bünyemizde uygulamamıza olanak sağlar. Ayrıca müşteri tarafından tedarik edilen parçalar için kaplama hizmetleri de sunarak farklı ihtiyaçları karşılama esnekliği sağlıyoruz.


Silisyum Karbür Kaplama ürünlerimiz Si ​​epitaksi, SiC epitaksi, MOCVD sistemi, RTP/RTA işlemi, aşındırma işlemi, ICP/PSS aşındırma işlemi, mavi ve yeşil LED, UV LED ve derin UV dahil olmak üzere çeşitli LED türlerinin işleminde yaygın olarak kullanılmaktadır. LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI ve benzerlerinin ekipmanlarına uyarlanan LED vb.


Yapabileceğimiz reaktör parçaları:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Silisyum Karbür Kaplamanın birçok benzersiz avantajı vardır:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



VeTek Yarı İletken Silisyum Karbür Kaplama Parametresi

CVD SiC kaplamanın temel fiziksel özellikleri
Mülk Tipik Değer
Kristal Yapısı FCC β fazı çok kristalli, esas olarak (111) yönelimli
SiC kaplama Yoğunluk 3,21 g/cm³
SiC kaplamaSertlik 2500 Vickers sertliği (500g yük)
Tahıl Boyutu 2~10μm
Kimyasal Saflık %99,99995
Isı Kapasitesi 640 J·kg-1·K-1
Süblimleşme Sıcaklığı 2700°C
Eğilme Dayanımı 415 MPa RT 4 noktalı
Young Modülü 430 Gpa 4pt viraj, 1300°C
Isı İletkenliği 300W·m-1·K-1
Termal Genleşme (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC FİLM KRİSTAL YAPISI

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
LPE PE2061S için SiC Kaplamalı Namlu Süseptör

LPE PE2061S için SiC Kaplamalı Namlu Süseptör

Çin'in önde gelen levha tutucu üretim tesislerinden biri olan VeTek Semiconductor, levha tutucu ürünlerinde sürekli ilerleme kaydetmiş ve birçok epitaksiyel levha üreticisinin ilk tercihi haline gelmiştir. VeTek Semiconductor tarafından sağlanan LPE PE2061S için SiC Kaplamalı Namlu Askı, LPE PE2061S 4" levhalar için tasarlanmıştır. Süseptör, LPE (sıvı faz epitaksi) işlemi sırasında performansı ve dayanıklılığı artıran dayanıklı bir silikon karbür kaplamaya sahiptir. Sorgunuza hoş geldiniz, uzun vadeli ortağınız olmayı dört gözle bekliyoruz.
Katı SiC Gaz Duş Başlığı

Katı SiC Gaz Duş Başlığı

Katı SiC Gaz Duş Başlığı, CVD prosesinde gazın tek biçimli hale getirilmesinde önemli bir rol oynar, böylece alt tabakanın eşit şekilde ısıtılmasını sağlar. VeTek Semiconductor, katı SiC cihazları alanında uzun yıllardan beri derin bir şekilde yer almaktadır ve müşterilerine özelleştirilmiş Katı SiC Gaz Duş Başlıkları sunabilmektedir. Gereksinimleriniz ne olursa olsun, sorgunuzu sabırsızlıkla bekliyoruz.
Kimyasal Buhar Biriktirme İşlemi Katı Sic Edge Halkası

Kimyasal Buhar Biriktirme İşlemi Katı Sic Edge Halkası

Vetek Semiconductor her zaman gelişmiş yarı iletken malzemelerin araştırma ve geliştirilmesine ve üretimine bağlıdır. Bugün, Vetek Semiconductor kimyasal buhar biriktirme süreci katı sic kenar halkası ürünlerinde büyük ilerleme kaydetmiştir ve müşterilere oldukça özelleştirilmiş katı sic kenar halkaları sağlayabilmektedir. Katı SIC kenar halkaları, elektrostatik bir ayna ile kullanıldığında daha iyi dağlama homojenliği ve hassas gofret konumlandırma sağlar ve tutarlı ve güvenilir dağlama sonuçları sağlar. Sorgunuzu dört gözle bekliyorum ve birbirinizin uzun vadeli ortakları olmayı dört gözle bekliyorum.
Katı sic gravür odaklama halkası

Katı sic gravür odaklama halkası

Katı sic gravür odaklama halkası, gofretlerin sabitlenmesinde, plazmanın odaklanmasında ve gofret dağlama homojenliğini iyileştirmede rol oynayan gofret aşındırma işleminin temel bileşenlerinden biridir. Çin'de önde gelen SIC odaklama halka üreticisi olan Vetek Semiconductor, ileri teknolojiye ve olgun sürece sahiptir ve müşteri gereksinimlerine göre son müşterilerin ihtiyaçlarını tam olarak karşılayan sağlam SIC dağlama odaklama halkası üretir. Soruşturmanız ve birbirimizin uzun vadeli ortakları olmayı dört gözle bekliyoruz.
Çin'de profesyonel bir Silisyum Karbür Kaplama üretici ve tedarikçi olarak kendi fabrikamız var. İster bölgenizin özel ihtiyaçlarını karşılamak için özelleştirilmiş hizmetlere ihtiyacınız olsun, ister Çin'de yapılan gelişmiş ve dayanıklı Silisyum Karbür Kaplama satın almak istiyorsanız, bize bir mesaj bırakabilirsiniz.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept