ALD Erimiş Kuvars Kaide

Vetek Semiconductor ALD kaynaşmış kuvars kaidesi, yarı iletken üretim sürecinde bir destek yapısı olarak önemli bir rol oynar.kuvars teknesi, tutmak için kullanılangofret. Kaynaşmış kuvars kaidesi, yarı iletken cihazların performansını ve güvenilirliğini doğrudan etkileyen sabit bir sıcaklığı koruyarak düzgün film birikimi elde etmeye yardımcı olur. Buna ek olarak, kuvars kaidesi, işlem odasında ısı ve ışığın eşit dağılımını sağlar, böylece biriktirme sürecinin genel kalitesini iyileştirir.

Ald kaynaşmış kuvars kaide malzemesi avantajları

Yüksek Sıcaklık Dayanımı: Erimiş kuvars kaidenin yumuşama noktası yaklaşık 1730°C kadar yüksektir ve 1100°C ila 1250°C arasındaki yüksek sıcaklıkta çalışmaya uzun süre dayanabilir ve 1450°C'ye kadar aşırı sıcaklık ortamlarına maruz kalabilir kısa bir süre için.

Mükemmel Korozyon Direnci: Kaynaşmış kuvars, hidrofluorik asit hariç neredeyse tüm asitlere çok kimyasal olarak inerttir. Asit direnci seramiklerden 30 kat daha yüksek ve paslanmaz çelikten 150 kat daha yüksektir. Kaynaşmış kuvars, yüksek sıcaklıklarda kimyasal olarak eşsizdir, bu da onu karmaşık kimyasal işlemler için ideal bir malzeme haline getirir.

Termal stabilite: Erimiş Kuvars Kaide malzemesinin önemli bir özelliği, son derece düşük termal genleşme katsayısıdır. Bu, dramatik sıcaklık dalgalanmalarını çatlamadan kolayca kaldırabileceği anlamına gelir. Örneğin, erimiş silika kuvars hızlı bir şekilde 1100°C'ye ısıtılabilir ve zarar görmeden doğrudan soğuk suya daldırılabilir; bu, yüksek stresli üretim koşullarında önemli bir özelliktir.

Titiz üretim süreci: Erimiş silika kaidelerin üretim süreci, yüksek kalite standartlarına sıkı sıkıya bağlıdır. Üretim süreci, genellikle 10.000 sınıfı temiz oda ortamında tamamlanan sıcak şekillendirme ve kaynak işlemlerini kullanır. Daha sonra, erimiş kuvars cam kaide, ürünün saflığını ve optimum performansı sağlamak için ultra saf su (18 MΩ) ile iyice temizlenir. Tamamlanan her ürün, yarı iletken endüstrisinin yüksek standartlarını karşılamak üzere 1.000 sınıfı veya daha yüksek bir temiz odada titizlikle incelenir, temizlenir ve paketlenir.

Yüksek saflıkta opak silika kuvars malzemesi

VeTeksemi ALD Erimiş Kuvars Kaide, ısıyı ve ışığı etkili bir şekilde izole etmek için yüksek saflıkta opak kuvars malzeme kullanır. Mükemmel ısı koruma ve ışık koruma özellikleri, proses odasında eşit sıcaklık dağılımını korumasını sağlayarak ince malzemelerin homojenliğini ve tutarlılığını sağlar.film biriktirmegofret yüzeyinde.

Uygulama Alanları

Erimiş kuvars kaideler, mükemmel performanslarından dolayı yarı iletken endüstrisinin birçok alanında yaygın olarak kullanılmaktadır. içindeatomik katman biriktirme (ALD) işlemifilm büyümesinin hassas kontrolünü destekler ve yarı iletken cihazların ilerlemesini sağlar. içindeDüşük basınçlı kimyasal buhar birikimi (LPCVD) işlemiYüksek saflıktaki kuvars Kaidenin termal stabilitesi ve ışıktan koruma yeteneği, ince filmlerin eşit şekilde birikmesini garanti eder, böylece cihazın performansını ve verimini artırır.

Ek olarak, difüzyon gofret işleminde, kaynaşmış kuvars kaidesinin yüksek sıcaklık direnci ve kimyasal korozyon direnci, yarı iletken malzeme doping işleminin güvenilirliğini ve tutarlılığını sağlar. Bu anahtar süreçler, yarı iletken cihazların elektrik performansını belirler ve yüksek kaliteli kaynaşmış kuvars malzemeleri, bu süreçlerin en iyi sonuçlarına ulaşmada vazgeçilmez bir rol oynar.

VeTek Semiconductor ALD Sigortalı Kuvars Kaide mağazaları: