Difüzyon Fırını için Kuvars Fırın Borusu

1. Temel Özellikler ve Avantajlar

• Ultra yüksek saflıkta dehidroksillenmiş erimiş kuvars (SiO₂ ≥ %99,999), metal safsızlıkları ppb seviyelerinde kontrol edilir ve son derece düşük hidroksil içeriği vardır

• 1100 °C'ye kadar uzun süreli çalışma sıcaklığı; 1200 °C'ye kadar kısa süreli tepe direnci

• Tam gerilim giderme tavlamasından sonra mükemmel termal şok direnci; hızlı sıcaklık değişimleri altında çatlamaya karşı dayanıklı

• Oksitleyici, indirgeyici ve halojen içeren proses gazlarına karşı üstün kimyasal eylemsizlik; Plazma ve aşındırıcı atmosferler için uygun

• Çok düşük vakumlu gaz çıkışı; pürüzsüz iç duvar, yan ürün oluşumunu en aza indirir ve proses tekrarlanabilirliğini destekler

• Güvenilir sızdırmazlık için eşit duvar kalınlığı, yüksek eşeksenlilik ve hassas işlenmiş uçlarla tek parça oluşturma

• Özelleştirilebilir yapılar: düz borular, azaltıcı borular, flanşlı borular, uzatılmış uzunluklar ve dikey veya yatay fırınlar için özel uç konfigürasyonları

2. Tipik Uygulamalar

VeTek kuvars fırın tüpleri aşağıdaki alanlarda çekirdek reaksiyon odası olarak yaygın şekilde kullanılır:

• Termal oksidasyon fırınları (kuru/ıslak oksidasyon)

• Katkı maddesi girişi için difüzyon fırınları (B, P, As, vb.)

• İnce film biriktirme için LPCVD sistemleri

• Vakumlu tavlama ve diğer yüksek sıcaklıkta ısıl işlem prosesleri

• 4 inç, 6 inç, 8 inç ve 12 inç plaka platformlarıyla uyumludur (Si, SiC, GaN, safir alt katmanlar)

Sabit sıcaklık eşitliği, gaz akışı kontrolü ve ultra temiz proses ortamları gerektiren mantık, bellek, güç cihazı, MCU, LED, MEMS ve geniş bant aralıklı yarı iletken üretim hatlarını desteklerler.

3. Temel Teknik Parametreler

• Malzeme: Yarı iletken dereceli dehidroksillenmiş erimiş kuvars (SiO₂ ≥ %99,999), düşük hidroksil, düşük metalik safsızlıklar

• Gofret uyumluluğu: 4/6/8/12 inç

• Uzun süreli çalışma sıcaklığı: −20 °C ila 1100 °C; 1200 °C'ye kadar kısa süreli zirve

• Proses: Tek parça termal şekillendirme, duvar homojenleştirme, son bitirme, gerilim giderme tavlaması, helyum sızıntı testi, ultra temiz temizleme

• Mevcut yapılar: Düz boru, redüktör boru, flanşlı boru, uzatılmış / özel uzunlukta boru, özel uçlu konfigürasyonlar

• Özelleştirme: Müşteri çizimlerine göre iç/dış çap, uzunluk, duvar kalınlığı, flanş özellikleri ve özel geometriler

4. Neden VeTek Kuvars Fırın Tüplerini Seçmelisiniz?

Yarı iletken kuvars bileşenlerin profesyonel üreticisi olarak VeTek Semiconductor şunları sunmaktadır:

• Oksidasyon, difüzyon, LPCVD ve tavlama ekipmanı için tasarlanmış yüksek saflıkta kuvars fırın tüpleri

• Sınıf 10 / Sınıf 100 temiz oda üretimine uygun sıkı saflık kontrolü, boyutsal doğruluk ve temizlik

• Dikey ve yatay tüp fırınlar için tam kişiselleştirme ve OEM uyumlu tasarımlar

• Wafer tekneleri, potalar, astarlar ve diğer proses bileşenlerini içeren tamamlayıcı yarı iletken kuvars ürünleri

Kuvars fırın tüplerimiz, sabit termal ve gaz akışı koşullarının korunmasına yardımcı olur, parçacık ve metal kirlenmesini en aza indirir ve sürekli yüksek sıcaklık döngüsü altında hizmet ömrünü uzatır; yarı iletken termal işlemede daha yüksek verimi ve daha düşük sahip olma maliyetini destekler.