Kuvars gaz dağıtım plakası

Kuvars duş başlıkları olarak da bilinen kuvars gaz dağılım plakaları, yarı iletken imalatında kritik bileşenlerdir. Kuvarsın olağanüstü saflık, yüksek sıcaklık direnci ve korozyon direncinden yararlanan bu plakalar, gofret yüzeyine düzgün ve kararlı bir işlem gazının akışını sağlar. Bu kesin teslimat, yatırılan filmlerin veya kazınmış özelliklerin kalitesini ve tekdüzeliğini korumak için gereklidir.

Yüksek saflıkta kaynaşmış kuvarsın temel özellikleri

● Malzeme:%99.99 yüksek saflıkta kaynaşmış kuvars

● Yüksek sıcaklık direnci: 1000'in üzerindeki sıcaklıklara dayanır ℃

● Korozyon direnci: Proses gazlarına ve plazma ortamlarına karşı mükemmel dayanıklılık

● Hassas gaz akışı: Optimal gaz dağıtım ve biriktirme tekdüzeliği için düzgün mikro delik dağılımı

● Özelleştirilebilir tasarım: Boyut, delik deseni ve montaj özellikleri belirli ekipman modelleri için uyarlanabilir

Yarıiletken üretiminde temel roller

1. Fiziksel buhar birikimi (PVD) ve kimyasal buhar birikimi (CVD)

Rol: PVD ve CVD işlemlerinde, gaz dağılım plakası, istenen ince bir film oluşturmak için gofret üzerine reaktif gazları (örn. Silan, amonyak, oksijen) veya öncülleri tam olarak yönlendirir.

Özel kullanımlar:

● Tekdüzelik Kontrolü: Plakanın tam olarak tasarlanmış mikro delikleri, gaz akışının ve konsantrasyonunun tüm gofret yüzeyi boyunca eşit olmasını sağlar. Bu, tutarlı kalınlık ve performansa sahip filmlerin yatırılması için hayati önem taşır.

● Kontaminasyonun önlenmesi: Kuvarın yüksek saflığı, plakanın proses gazları ile reaksiyona girmesini veya safsızlıkları serbest bırakmasını önler. Bu, filmin saflığını korur ve gofret yüzeyindeki kusurları önler.

2. Plazma ile güçlendirilmiş kimyasal buhar birikimi (PECVD)

Rol: PECVD'de, kuvars duş başlığı sadece reaktif gazlar sunmakla kalmaz, aynı zamanda plazma üretimi için bir elektrot olarak da işlev görür.

Özel kullanımlar:

● Plazma ateşleme: Duş başlığı tipik olarak bir plazma oluşturmak için bir radyo frekansı (RF) güç kaynağına bağlanır. Plazma içindeki yüksek enerjili parçacıklar, gaz hali reaktanlarının ayrışmasını teşvik ederek, daha düşük sıcaklıklarda film biriktirmesini sağlar.

● Termal stabilite: Kuvars, yüksek sıcaklık plazma ortamına dayanmasını sağlayan mükemmel termal stabilite sergiler. Bu, işlem odasında düzgün bir sıcaklığın korunmasına yardımcı olur ve film kalitesi ve tutarlılığı daha da sağlar.

3. Kuru dağlama

Rol: Kuru dağlama sırasında, gaz dağılım plakası, gravür odasına reaktif dağlama gazları (örn. Florokarbonlar, klor) getirir.

Özel kullanımlar:

● Aşınma homojenliği: Plaka, tüm gofret boyunca tutarlı aşındırma derinliğini ve profili garanti eden düzgün bir akış ve gravür gazı konsantrasyonu sağlar. Bu, gelişmiş yarı iletken cihazlar için gereken kesin desenleri elde etmek için çok önemlidir.

● Korozyon direnci: Etch gazlarının güçlü aşındırıcı özellikleri dayanıklı bir malzeme gerektirir. Quartz'ın yüksek korozyon direnci duş başlığının ömrünü uzatır ve süreç kesintileri riskini azaltır.

4. Gofret temizliği

Rol: Spesifik gofret temizleme işlemlerinde, kalıntıları veya kirleticileri çıkarmak için gofret yüzeyine eşit olarak temizleme gazları (örn. Ozon, amonyak) vermek için bir kuvars gaz dağılım plakası kullanılır.

Özel kullanımlar:

● Tutarlı temizlik: Plaka, temizlik gazlarının gofretin her parçasına ulaşmasını sağlar ve kapsamlı ve tekdüze bir temizlik işlemi sağlar.

● Kimyasal uyumluluk: Kuvars'ın çok çeşitli temizlik kimyasallarıyla uyumluluğu reaksiyonları önler ve temizleme işleminin saflığını ve etkinliğini korur.