SiC Kristal Büyüme Gözenekli Grafit

SIC kristal büyümesi Gözenekli grafit, oldukça kontrol edilebilir bir gözenek yapısına sahip gözenekli grafitten yapılmış bir malzemedir. Yarı iletken işlemede mükemmel termal iletkenlik, yüksek sıcaklık direnci ve kimyasal stabilite gösterir, bu nedenle fiziksel buhar birikimi, kimyasal buhar birikimi ve diğer işlemlerde yaygın olarak kullanılır, üretim sürecinin ve ürün kalitesinin verimliliğini önemli ölçüde iyileştirir, optimize edilmiş bir yarı iletken haline gelir Üretim ekipmanı performansı için kritik malzemeler.

PVD işleminde, SiC Kristal Büyüme Gözenekli Grafit genellikle bir alt tabaka desteği veya fikstürü olarak kullanılır. İşlevi, levhayı veya diğer alt tabakaları desteklemek ve biriktirme işlemi sırasında malzemenin stabilitesini sağlamaktır. Gözenekli Grafitin termal iletkenliği genellikle 80 W/m·K ile 120 W/m·K arasındadır; bu, Gözenekli Grafitin ısıyı hızlı ve eşit bir şekilde iletmesini sağlayarak yerel aşırı ısınmayı önler, böylece ince filmlerin eşit olmayan şekilde birikmesini önleyerek Proses verimliliğini büyük ölçüde artırır. .

Ek olarak, SIC kristal büyümesi gözenekli grafitin tipik gözeneklilik aralığı% 20 ~% 40'dır. Bu özellik, vakum odasındaki gaz akışının dağıtılmasına yardımcı olabilir ve biriktirme işlemi sırasında gaz akışının film katmanının tekdüzeliğini etkilemesini önleyebilir.

CVD prosesinde, SiC Kristal Büyüme Gözenekli Grafitinin gözenekli yapısı, gazların düzgün dağılımı için ideal bir yol sağlar. Reaktif gaz, ince bir film oluşturmak üzere gaz fazındaki bir kimyasal reaksiyon yoluyla alt tabakanın yüzeyinde biriktirilir. Bu işlem, reaktif gazın akışının ve dağıtımının hassas kontrolünü gerektirir. Gözenekli Grafitin %20 ~ %40 gözenekliliği, gazı etkili bir şekilde yönlendirebilir ve alt tabakanın yüzeyine eşit şekilde dağıtabilir, biriktirilen film tabakasının tekdüzeliğini ve tutarlılığını geliştirebilir.

Gözenekli Grafit, özellikle yüksek saflıkta malzemeler gerektiren ve partikül kontaminasyonu için son derece yüksek gereksinimlere sahip yarı iletken işlemlerde, CVD ekipmanında fırın tüpleri, alt tabaka taşıyıcıları veya maske malzemeleri olarak yaygın olarak kullanılır. Aynı zamanda CVD işlemi genellikle yüksek sıcaklıklar içerir ve Gözenekli Grafit 2500°C'ye kadar sıcaklıklarda fiziksel ve kimyasal stabilitesini koruyabilmektedir, bu da onu CVD işleminin vazgeçilmez bir malzemesi haline getirmektedir.

Gözenekli yapısına rağmen, SiC Kristal Büyüme Gözenekli Grafiti hala 50 MPa'lık bir basınç dayanımına sahiptir ve bu, yarı iletken üretimi sırasında oluşan mekanik stresin üstesinden gelmek için yeterlidir.

Çin'in yarı iletken endüstrisindeki gözenekli grafit ürünlerinin lideri olan Veteksemi, her zaman ürün özelleştirme hizmetlerini ve tatmin edici ürün fiyatlarını desteklemiştir. Özel gereksinimleriniz ne olursa olsun, gözenekli grafitiniz için en iyi çözümü eşleştireceğiz ve istediğiniz zaman danışmanlığınızı dört gözle bekleyeceğiz.

SIC kristal büyümesi gözenekli grafitin temel fiziksel özellikleri:

Vetek Semiconductor Sic Kristal Büyüme Gözenekli Grafit Ürünleri Mağazaları:

Yarı iletken çip epitaksi endüstri zincirine genel bakış: