Tantal karbür kaplı halka

Vetek Semiconductor Tantalum Karbür Kaplamalı Yüzükgrafitve üstün performans ve uzun ömür sağlamak için her iki malzemenin en iyi özelliklerinden yararlanan bir kombinasyon olan tantal karbür ile kaplanmıştır. 

Tantal karbür kaplama halkası üzerindeki TAC kaplama, genellikle hidrojen, argon ve azot gibi gazları içeren SiC kristal büyüme fırınlarının reaktif atmosferlerinde kimyasal olarak inert kalmasını sağlar. Bu kimyasal inertlik, büyüyen kristalin herhangi bir kontaminasyonunu önlemek için hayati önem taşır, bu da nihai yarı iletken ürünlerin kusurlarına ve azalmasına yol açabilir. Ek olarak, TAC kaplama tarafından sağlanan termal stabilite, tantal karbür kaplama halkasının, tipik olarak 2000 ° C'yi aşan SIC kristal büyümesi için gereken yüksek sıcaklıklarda etkili bir şekilde çalışmasına izin verir.

Yoğun ve düzgün TAC kaplama, plazma püskürtme, CVD yöntemi ve bulamaç sinterleme yöntemi ile grafit yüzeyinde hazırlanabilir, ancak plazma püskürtme yöntemi yüksek ekipman gereksinimlerine ve TA2C oluşumuna sahiptir. Kompozit kaplamayı bulamaç sinterleme yöntemi ile hazırlamak zordur ve kaplamanın termal şok direnci zayıftır. CVD yöntemi ile hazırlanan kaplama, şu anda yaygın bir tantal karbür kaplama yöntemi olan kontrol edilebilir bileşime ve en yüksek yoğunluğa sahiptir.

TAC'nin mekanik özellikleri, tantal karbür kaplama halkasındaki aşınma ve yıpranmayı büyük ölçüde azaltır. Bu, kılavuz halkasını sık sık termal döngülere ve mekanik gerilmelere maruz bırakan kristal büyüme sürecinin tekrarlayan doğası nedeniyle çok önemlidir. TAC'nin sertliği ve aşınma direnci, TAC kaplı halkanın yapısal bütünlüğünü ve kesin boyutlarını uzun süre korumasını sağlar, bu da sık değiştirme ihtiyacını en aza indirir ve üretim sürecinde kesinti süresini azaltır. 

Tantal karbür kaplamanın kütle yoğunluğu 14.3gm/cm3, emisyon 0.3, sertlik 2000HK'dır, erime noktası 3950'dir ve iyi fiziksel özellikler üçüncü nesil yarı iletkenler için ortak bir malzeme olarak seçilmiştir.

Ek olarak, tantal karbür kaplama halkasındaki grafit ve TAC kombinasyonu, kristal büyüme fırını içindeki termal yönetimini optimize eder. Grafitin yüksek termal iletkenliği, ısıyı verimli bir şekilde dağıtır, sıcak noktaları önler ve düzgün kristal büyümesini teşvik eder. Bu arada, TAC kaplama, grafit çekirdeğini yüksek sıcaklıklara ve reaktif gazlara doğrudan maruz kalmadan koruyan bir termal bariyer görevi görür. Çekirdek ve kaplama malzemeleri arasındaki bu sinerji, sadece sert koşullara dayanmayan bir kılavuz halkası ile sonuçlanır.Sic kristal büyümesiaynı zamanda sürecin genel verimliliğini ve kalitesini de artırır.

Vetek Semiconductor Tantalum Karbür Kaplamalı Halka, yarı iletken endüstrisinde, özellikle büyümenin büyümesi için tasarlanmış önemli bir bileşendir.Silikon karbür kristalleri. Tasarımı, yüksek sıcaklık, yüksek stresli ortamlarda olağanüstü performans sağlamak için grafit ve tantal karbürün güçlü yönlerini kullanır. TAC kaplama, hepsi yüksek kaliteli SIC kristalleri üretmek için kritik olan kimyasal inertlik, mekanik dayanıklılık ve termal stabilite sağlar. Aşırı koşullar altında bütünlüğünü ve işlevselliğini koruyarak, halka SIC kristallerinin etkili ve kusursuz büyümesini destekleyerek yüksek güçlü ve yüksek frekanslı yarı iletken cihazların ilerlemesine katkıda bulunur.

Vetek Semiconductor, önde gelen bir üreticisi ve tedarikçisidir.Tantal karbür kaplama, Silikon karbür kaplamaVeÖzel grafitÇin'de. Uzun zamandır yarı iletken endüstrisi için ileri teknoloji ve ürün çözümleri sağlamayı taahhüt ettik ve içtenlikle Çin'deki uzun vadeli partneriniz olmayı umuyoruz.

Tantal karbür (TAC) kaplamaMikroskobik bir kesitte：

Genel bakışYarıiletken çip epitaksi endüstri zinciri：