Gofret Taşıyıcı için CVD SiC Kaplamalı Grafit Tutucu

1. Ürün Avantajları

• Yüksek Saflıkta Malzeme:Yarı iletken sınıfı grafit malzeme ve yoğun SiC kaplama yapısı, kirlenme risklerini en aza indirir ve CVD SiC kaplı grafit tutucunun güvenilirliğini artırır.
• Mükemmel Termal Tekdüzelik:Optimize edilmiş grafit yapısı ve SiC kaplama, istikrarlı ısı transferi ve düzgün levha sıcaklığı kontrolü sağlar.
• Üstün Kimyasal Direnç:Yoğun SiC kaplama, proses gazlarına ve aşındırıcı ortamlara karşı güçlü bir direnç sunar.
• Uzun Hizmet Ömrü:Yüksek sertlik ve aşınma direnci, yüksek sıcaklıktaki epitaksi koşulları altında dayanıklılığı artırır.
• Düşük Partikül Üretimi:Yoğun CVD SiC yüzeyi parçacık salınımını azaltır ve levha proses güvenilirliğini artırır.
• Özelleştirilmiş Tasarım Yeteneği:Ekipman gereksinimlerine göre farklı boyutlarda, yapılarda ve konfigürasyonlarda mevcuttur.

2. Teknik Özellikler

3. Başvurular

• SiC Epitaksi Süreci:Grafit tutucu, SiC epitaksi ekipmanında, yüksek sıcaklıkta epitaksiyel büyüme sırasında SiC substratlarını destekleyen bir levha taşıyıcı olarak kullanılır.
• Silikon Epitaksi Süreci:Plakaları desteklemek ve sabit termal koşulları korumak için silikon epitaksiyel reaktörlerde uygulanır.
• MOCVD Epitaksi:VETEK grafit tutucular MOCVD, LED epitaksi, GaN epitaksi, silikon epitaksi ve mükemmel termal tekdüzelik ve kimyasal stabilite gerektiren diğer yarı iletken üretim süreçleri için uygundur.
• Yarı İletken Üretim Ekipmanları:LPE yatay fırınlar, Aixtron, NuFlare ve ilgili yarı iletken ekipmanlar dahil olmak üzere çeşitli epitaksi platformlarıyla uyumludur.

4. Neden VETEK'i Seçmelisiniz?

VETEK, grafit saflaştırma, hassas işleme, CVD kaplama ve denetim yeteneklerini birleştiren özelleştirilmiş CVD SiC kaplı grafit tutucu çözümleri sunar. Yarı iletken sınıfı grafit tutucu ürünlerimiz, zorlu levha taşıyıcı uygulamaları için yüksek saflığa, eşit kaplama kalınlığına, mükemmel termal performansa ve uzun hizmet ömrüne sahiptir.