Ürünler

Silisyum karbür epitaksiyel büyümenin temel sürecinde Veteksemicon, suseptör performansının epitaksiyel katmanın kalitesini ve üretim verimliliğini doğrudan belirlediğinin bilincindedir. SiC alanı için özel olarak tasarlanan yüksek saflıkta EPI sensörlerimiz, özel bir grafit alt tabaka ve yoğun bir CVD SiC kaplama kullanır. Üstün termal kararlılıkları, mükemmel korozyon direnci ve son derece düşük parçacık üretim hızıyla, zorlu yüksek sıcaklıktaki proses ortamlarında bile müşteriler için benzersiz kalınlık ve katkılama eşitliği sağlarlar. Veteksemicon'u seçmek, gelişmiş yarı iletken üretim süreçleriniz için güvenilirlik ve performansın temel taşını seçmek anlamına gelir.

ASM için Veteksemicon SiC kaplı grafit tutucu, yarı iletken epitaksiyel işlemlerde çekirdek taşıyıcı bir bileşendir. Bu ürün, yüksek sıcaklık ve aşındırıcı proses ortamlarında üstün performans ve ultra uzun kullanım ömrü sağlamak için tescilli pirolitik silisyum karbür kaplama teknolojimizi ve hassas işleme proseslerimizi kullanır. Epitaksiyel proseslerin alt tabaka saflığı, termal kararlılık ve tutarlılık konusundaki katı gerekliliklerini derinden anlıyoruz ve müşterilerimize genel ekipman performansını artıran istikrarlı, güvenilir çözümler sunmaya kendimizi adadık.

Veteksemicon yarı iletken dereceli kuvars potaları, Czochralski tek kristal büyütme prosesindeki temel sarf malzemeleridir. Temel odak noktamız olan aşırı saflık ve üstün termal kararlılıkla, müşterilerimize yüksek sıcaklık ve yüksek basınç ortamlarında istikrarlı performans ve kristalleşmeye karşı mükemmel direnç sergileyen yüksek kaliteli ürünler sunmaya kararlıyız. Bu, kristal çubukların kaynaktan kalitesini garanti ederek yarı iletken silikon levha üretiminin daha yüksek verim ve daha iyi maliyet etkinliği elde etmesine yardımcı olur.

Veteksemicon odak halkası, özellikle SiC aşındırma uygulamaları olmak üzere zorlu yarı iletken aşındırma ekipmanları için özel olarak tasarlanmıştır. Elektrostatik aynanın (ESC) çevresine, levhanın yakınına monte edilen bu parçanın birincil işlevi, reaksiyon odası içindeki elektromanyetik alan dağılımını optimize ederek tüm levha yüzeyi boyunca düzgün ve odaklanmış plazma hareketi sağlamaktır. Yüksek performanslı odak halkası, aşındırma hızı tekdüzeliğini önemli ölçüde artırır ve kenar etkilerini azaltarak ürün verimini ve üretim verimliliğini doğrudan artırır.

LED Aşındırma İçin Veteksemicon Silisyum Karbür Taşıyıcı Plaka, LED çip üretimi için özel olarak tasarlanmış olup, aşındırma işleminde kullanılan bir çekirdek sarf malzemesidir. Hassas sinterlenmiş yüksek saflıkta silisyum karbürden yapılmıştır, olağanüstü kimyasal direnç ve yüksek sıcaklıkta boyutsal stabilite sunar, güçlü asitler, bazlar ve plazmadan kaynaklanan korozyona etkili bir şekilde direnç gösterir. Düşük kirlenme özellikleri, LED epitaksiyel levhalar için yüksek verim sağlarken, geleneksel malzemelerinkini çok aşan dayanıklılığı, müşterilerin genel işletme maliyetlerini azaltmasına yardımcı olarak, onu gravür prosesi verimliliğini ve tutarlılığını geliştirmek için güvenilir bir seçim haline getiriyor.

PECVD için Veteksemicon grafit botu, yüksek saflıkta grafitten hassas bir şekilde işlenmiştir ve özellikle plazma ile geliştirilmiş kimyasal buhar biriktirme işlemleri için tasarlanmıştır. Yarı iletken termal alan malzemeleri ve hassas işleme yetenekleri konusundaki derin anlayışımızı kullanarak, olağanüstü termal kararlılığa, mükemmel iletkenliğe ve uzun hizmet ömrüne sahip grafit tekneler sunuyoruz. Bu tekneler, zorlu PECVD proses ortamında her levha üzerinde son derece düzgün ince film birikmesini sağlayacak ve proses verimini ve üretkenliğini artıracak şekilde tasarlanmıştır.