Ürünler

Veteksemicon SiC Kaplamalı Epitaksiyel Reaktör odası, zorlu yarı iletken epitaksiyel büyüme süreçleri için tasarlanmış bir çekirdek bileşendir. Gelişmiş kimyasal buhar biriktirme (CVD) kullanan bu ürün, yüksek mukavemetli bir grafit alt tabaka üzerinde yoğun, yüksek saflıkta bir SiC kaplama oluşturarak üstün yüksek sıcaklık stabilitesi ve korozyon direnci sağlar. Yüksek sıcaklıktaki proses ortamlarında reaktif gazların aşındırıcı etkilerine etkili bir şekilde direnç gösterir, partikül kirliliğini önemli ölçüde bastırır, tutarlı epitaksiyel malzeme kalitesi ve yüksek verim sağlar ve reaksiyon odasının bakım döngüsünü ve ömrünü önemli ölçüde uzatır. SiC ve GaN gibi geniş bant aralıklı yarı iletkenlerin üretim verimliliğini ve güvenilirliğini artırmak için önemli bir seçimdir.

Veteksemicon'un Silikon Kaset Teknesi, oksidasyon, difüzyon, içeri girme ve tavlama dahil olmak üzere yüksek sıcaklıktaki yarı iletken fırın uygulamaları için özel olarak geliştirilmiş hassas mühendislik ürünü bir levha taşıyıcıdır. Ultra yüksek saflıkta silikondan üretilmiş ve gelişmiş kirlilik kontrol standartlarına göre işlenmiş olup, silikon levhaların özelliklerine çok yakın olan, termal olarak stabil, kimyasal olarak inert bir platform sağlar. Bu hizalama termal stresi en aza indirir, kayma ve kusur oluşumunu azaltır ve parti boyunca olağanüstü derecede eşit ısı dağılımı sağlar

Silisyum karbür epitaksiyel büyümenin temel sürecinde Veteksemicon, suseptör performansının epitaksiyel katmanın kalitesini ve üretim verimliliğini doğrudan belirlediğinin bilincindedir. SiC alanı için özel olarak tasarlanan yüksek saflıkta EPI sensörlerimiz, özel bir grafit alt tabaka ve yoğun bir CVD SiC kaplama kullanır. Üstün termal kararlılıkları, mükemmel korozyon direnci ve son derece düşük parçacık üretim hızıyla, zorlu yüksek sıcaklıktaki proses ortamlarında bile müşteriler için benzersiz kalınlık ve katkılama eşitliği sağlarlar. Veteksemicon'u seçmek, gelişmiş yarı iletken üretim süreçleriniz için güvenilirlik ve performansın temel taşını seçmek anlamına gelir.

ASM için Veteksemicon SiC kaplı grafit tutucu, yarı iletken epitaksiyel işlemlerde çekirdek taşıyıcı bir bileşendir. Bu ürün, yüksek sıcaklık ve aşındırıcı proses ortamlarında üstün performans ve ultra uzun kullanım ömrü sağlamak için tescilli pirolitik silisyum karbür kaplama teknolojimizi ve hassas işleme proseslerimizi kullanır. Epitaksiyel proseslerin alt tabaka saflığı, termal kararlılık ve tutarlılık konusundaki katı gerekliliklerini derinden anlıyoruz ve müşterilerimize genel ekipman performansını artıran istikrarlı, güvenilir çözümler sunmaya kendimizi adadık.

Veteksemicon yarı iletken dereceli kuvars potaları, Czochralski tek kristal büyütme prosesindeki temel sarf malzemeleridir. Temel odak noktamız olan aşırı saflık ve üstün termal kararlılıkla, müşterilerimize yüksek sıcaklık ve yüksek basınç ortamlarında istikrarlı performans ve kristalleşmeye karşı mükemmel direnç sergileyen yüksek kaliteli ürünler sunmaya kararlıyız. Bu, kristal çubukların kaynaktan kalitesini garanti ederek yarı iletken silikon levha üretiminin daha yüksek verim ve daha iyi maliyet etkinliği elde etmesine yardımcı olur.

Veteksemicon odak halkası, özellikle SiC aşındırma uygulamaları olmak üzere zorlu yarı iletken aşındırma ekipmanları için özel olarak tasarlanmıştır. Elektrostatik aynanın (ESC) çevresine, levhanın yakınına monte edilen bu parçanın birincil işlevi, reaksiyon odası içindeki elektromanyetik alan dağılımını optimize ederek tüm levha yüzeyi boyunca düzgün ve odaklanmış plazma hareketi sağlamaktır. Yüksek performanslı odak halkası, aşındırma hızı tekdüzeliğini önemli ölçüde artırır ve kenar etkilerini azaltarak ürün verimini ve üretim verimliliğini doğrudan artırır.