Ürünler

LPE PE3061S 6'' gofretler için SiC Kaplamalı Gözleme Askısı, 6'' gofretlerin epitaksiyel gofret işlemesinde kullanılan temel bileşenlerden biridir. VeTek Semiconductor şu anda Çin'de LPE PE3061S 6'' levhalar için SiC Kaplamalı Gözleme Tutucunun lider üreticisi ve tedarikçisidir. Sağladığı SiC Kaplamalı Krep Askısı, yüksek korozyon direnci, iyi ısı iletkenliği ve iyi homojenlik gibi mükemmel özelliklere sahiptir. Soruşturmanızı sabırsızlıkla bekliyorum.

Vetek Semiconductor, Çin'de SIC kaplı grafit bileşenlerinin önde gelen üreticisi ve tedarikçisidir. LPE PE2061S için SIC kaplamalı destek, LPE silikon epitaksiyal reaktörü için uygundur. Namlu tabanının alt kısmı olarak, LPE PE2061'ler için SIC kaplamalı destek 1600 santigrat dereceli yüksek sıcaklıklara dayanabilir, böylece ultra uzun ürün ömrü elde edebilir ve müşteri maliyetlerini azaltabilir. Soruşturmanızı ve daha fazla iletişiminizi dört gözle bekliyorum.

VeTek Semiconductor, uzun yıllardan beri SiC kaplama ürünleriyle derinden ilgileniyor ve Çin'de LPE PE2061S için SiC Kaplamalı Üst Plakanın lider üreticisi ve tedarikçisi haline geldi. Sağladığımız LPE PE2061S için SiC Kaplamalı Üst Plaka, LPE silikon epitaksiyel reaktörler için tasarlanmıştır ve namlu tabanıyla birlikte üstte bulunur. LPE PE2061S için bu SiC Kaplamalı Üst Plaka, yüksek kaliteli epitaksiyel katmanların oluşturulmasına yardımcı olan yüksek saflık, mükemmel termal stabilite ve tekdüzelik gibi mükemmel özelliklere sahiptir. Hangi ürüne ihtiyacınız olursa olsun, sorgunuzu sabırsızlıkla bekliyoruz.

Çin'in önde gelen levha tutucu üretim tesislerinden biri olan VeTek Semiconductor, levha tutucu ürünlerinde sürekli ilerleme kaydetmiş ve birçok epitaksiyel levha üreticisinin ilk tercihi haline gelmiştir. VeTek Semiconductor tarafından sağlanan LPE PE2061S için SiC Kaplamalı Namlu Askı, LPE PE2061S 4" levhalar için tasarlanmıştır. Süseptör, LPE (sıvı faz epitaksi) işlemi sırasında performansı ve dayanıklılığı artıran dayanıklı bir silikon karbür kaplamaya sahiptir. Sorgunuza hoş geldiniz, uzun vadeli ortağınız olmayı dört gözle bekliyoruz.

Katı SiC Gaz Duş Başlığı, CVD prosesinde gazın tek biçimli hale getirilmesinde önemli bir rol oynar, böylece alt tabakanın eşit şekilde ısıtılmasını sağlar. VeTek Semiconductor, katı SiC cihazları alanında uzun yıllardan beri derin bir şekilde yer almaktadır ve müşterilerine özelleştirilmiş Katı SiC Gaz Duş Başlıkları sunabilmektedir. Gereksinimleriniz ne olursa olsun, sorgunuzu sabırsızlıkla bekliyoruz.

Vetek Semiconductor her zaman gelişmiş yarı iletken malzemelerin araştırma ve geliştirilmesine ve üretimine bağlıdır. Bugün, Vetek Semiconductor kimyasal buhar biriktirme süreci katı sic kenar halkası ürünlerinde büyük ilerleme kaydetmiştir ve müşterilere oldukça özelleştirilmiş katı sic kenar halkaları sağlayabilmektedir. Katı SIC kenar halkaları, elektrostatik bir ayna ile kullanıldığında daha iyi dağlama homojenliği ve hassas gofret konumlandırma sağlar ve tutarlı ve güvenilir dağlama sonuçları sağlar. Sorgunuzu dört gözle bekliyorum ve birbirinizin uzun vadeli ortakları olmayı dört gözle bekliyorum.