TaC Kaplamalı Grafit Gofret Kapak Halkası

Temel Teknik Avantajlar

• Olağanüstü Kimyasal Direnç: 1200°C ile 2000°C arasındaki sıcaklıklarda sert aşındırma gazlarına (H₂, NH₃, HCl) dayanacak şekilde tasarlanmıştır.

• Termal Genleşme Eşleştirme: Tescilli CVD işlemimiz, TaC kaplamanın grafit alt tabaka ile optimize edilmiş bir CTE (Termal Genleşme Katsayısı) uyumuna sahip olmasını sağlayarak hızlı termal döngü sırasında soyulmayı veya çatlamayı önler.

• Üstün Parçacık Kontrolü: TaC katmanı, gözenekli grafiti tamamen kapatarak parçacık dökülmesini ortadan kaldırır, doğrudan levha veriminizi artırır ve reaktörün arıza süresini azaltır.

• Uzatılmış Hizmet Ömrü: Tekrarlanan temizleme döngülerine dayanan, aşınmaya son derece dayanıklı yüzey, kaplanmamış veya SiC kaplı alternatiflerle karşılaştırıldığında önemli ölçüde daha düşük Sahip Olma Maliyeti (CoO) sunar.

Mikroskobik bir kesit üzerinde tantal karbür (TaC) kaplama

TaC Kaplamalı Grafit Gofret Kapak Halkasının ürün parametresi

Neden TaC Kapak Halkalarımızı Seçmelisiniz?

Yarı iletken üretiminde güvenilirliğin karlılığa eşit olduğunu anlıyoruz. TaC Kaplamalı Grafit Gofret Kapak Halkalarımız, kaplama yoğunluğu ve saflığı açısından toplu testlere tabi tutulmuştur. İster 6 inçlik plaka üretiminden 8 inçlik plaka üretimine geçiş yapıyor olun, ister yüksek sıcaklıkta bir MOCVD işlemini optimize ediyor olun, halkalarımız birinci sınıf epitaksi için gerekli termal ve kimyasal korumayı sağlar.