Ürünler
Fiziksel buhar birikimi
  • Fiziksel buhar birikimiFiziksel buhar birikimi

Fiziksel buhar birikimi

Vetek yarı iletken Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD), yüzey işleme ve ince film hazırlamada yaygın olarak kullanılan ileri bir proses teknolojisidir. PVD teknolojisi, malzemeleri doğrudan katı veya sıvıdan gaza dönüştürmek ve hedef alt tabakanın yüzeyinde ince bir film oluşturmak için fiziksel yöntemler kullanır. Bu teknoloji, yüksek hassasiyet, yüksek homojenlik ve güçlü yapışma avantajlarına sahiptir ve yarı iletkenlerde, optik cihazlarda, alet kaplamalarında ve dekoratif kaplamalarda yaygın olarak kullanılmaktadır. Bizimle tartışmaya hoş geldiniz!

Vetek Semiconductor, fiziksel buhar biriktirme işleminde gelişmiş yarı iletken malzemeler sağlayan bir Çin üreticisidir.Sic kaplı pota, camsı karbon pota,Sic kaplama grafit ısıtıcılar,Elektron Işını Tabancası Buharlaştırma Potaları.


PVD sürecinin temel ilkeleri


Fiziksel Buhar Biriktirme işlemleri genellikle buharlaştırma, püskürtme ve iyon kaplama gibi çeşitli spesifik yöntemleri içerir. Kullanılan yöntem ne olursa olsun, Fiziksel Buhar Biriktirmenin temel prensibi, malzemeyi kaynaktan yüksek sıcaklıkta ısıtma veya iyon bombardımanı yoluyla buharlaştırmaktır. Buharlaşan malzeme, vakumlu veya düşük basınçlı bir ortamda atom veya molekül şeklinde hareket eder ve alt tabakanın yüzeyinde ince bir film halinde yoğunlaşır. Bu işlem esas olarak fiziksel yollarla gerçekleştirilir, böylece kimyasal reaksiyonların malzemenin saflığı üzerindeki etkisi önlenir.


Fiziksel buhar biriktirme teknolojisinin avantajları


Yüksek saflık ve yüksek yoğunluk: PVD biriktirilmiş filmler genellikle yüksek saflığa ve yoğunluğa sahiptir; bu, aşınma direnci, korozyon direnci ve sertlik gibi kaplamanın performansını önemli ölçüde artırabilir.

Güçlü film yapışması: PVD işlemi, substrat üzerinde güçlü bir yapışma olan bir film oluşturabilir, bu da filmin kullanım sırasında soyulmasının kolay olmamasını ve ürünün servis ömrünü uzatmasını sağlayabilir.

Çok çeşitli malzeme seçimi: PVD teknolojisi metaller, seramikler ve alaşımlar dahil olmak üzere çeşitli malzemelere uygulanabilir ve iletken, yalıtkan, ısıya dayanıklı ve oksidasyon önleyici kaplamalar gibi çeşitli fonksiyonel kaplamalar hazırlayabilir.

Çevre Koruma ve Sürdürülebilirlik: Kimyasal buhar biriktirme (CVD) gibi işlemlerle karşılaştırıldığında, Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD) işlemi daha çevre dostudur, zararlı gazların oluşumunu içermez ve çevre kirliliğini azaltır.


PVD teknolojisinin uygulanması


Yarı iletken endüstrisi: Yarı iletken üretiminde, bileşenlerin iyi iletkenliğe ve stabiliteye sahip olmasını sağlamak için genellikle ince film elektrotların, difüzyon bariyerlerinin ve metal ara bağlantıların hazırlanmasında Fiziksel Buhar Biriktirme kullanılır.


pvd-process

Optik cihazlar: Fiziksel Buhar Biriktirme teknolojisi, aynalar ve lensler için yansıma önleyici kaplamalar gibi optik kaplamalarda ve optik cihazların performansını artırmak için optik filtrelerin üretiminde yaygın olarak kullanılmaktadır.


physical-vapor-deposition-process


Sıcak Etiketler: Fiziksel buhar birikimi
Talep Gönder
İletişim bilgileri
Silisyum Karbür Kaplama, Tantal Karbür Kaplama, Özel Grafit veya fiyat listesi ile ilgili sorularınız için lütfen e-posta adresinizi bize bırakın, 24 saat içinde sizinle iletişime geçeceğiz.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept