Silisyum Karbür Kaplama

Vetek Semiconductor'ın kullanılan CVD SIC kaplama koruyucusu LPE sic epitaksisidir, "LPE" terimi genellikle düşük basınçlı kimyasal buhar birikiminde (LPCVD) düşük basınç epitaksisini (LPE) ifade eder. Yarı iletken üretiminde LPE, genellikle silikon epitaksiyal katmanları veya diğer yarı iletken epitaksiyal katmanları büyütmek için kullanılan tek kristal ince filmler yetiştirmek için önemli bir süreç teknolojisidir. Daha fazla soru için bizimle iletişime geçmekten çekinmeyin.

Vetek Semiconductor, CVD SiC kaplama, grafit üzerine TaC kaplama ve silisyum karbür malzeme üretiminde profesyoneldir. SiC Kaplamalı Kaide, levha taşıyıcı, levha aynası, levha taşıyıcı tepsi, planet disk ve benzeri OEM ve ODM ürünleri sunuyoruz. 1000 dereceli temiz oda ve arıtma cihazıyla, size 5 ppm'nin altında safsızlık içeren ürünler sağlayabiliriz. Duymayı sabırsızlıkla bekliyorum yakında sizden.

Vetek Semiconductor, belirli ihtiyaçlara göre uyarlanmış SIC kaplama giriş halkası için ısmarlama tasarımlar yapmak için müşterilerle yakın işbirliği yapmak için mükemmeldir. Bu SIC kaplama giriş halkası, CVD SIC ekipmanı ve silikon karbür epitaksi gibi çeşitli uygulamalar için titizlikle tasarlanmıştır. Özel SIC kaplama giriş halkası çözümleri için, kişiselleştirilmiş yardım için Vetek Semiconductor'a ulaşmaktan çekinmeyin.

Vetek Semiconductor, esas olarak SIC kaplamalı destek halkaları, CVD silikon karbür (sic) kaplamalar, tantalik karbür (TAC) kaplamalar üreten profesyonel bir Çin üreticisi ve tedarikçisidir. Yarı iletken endüstrisi için mükemmel teknik destek ve nihai ürün çözümleri sunmaya kararlıyız, bizimle iletişime geçmeye hoş geldiniz.

Gofret Yarıiletken işleminde bir gofret sıkıştırma aracı ve PVD, CVD, aşındırma ve diğer işlemlerde yaygın olarak kullanılır. Şirket içi üretim, rekabetçi fiyatlandırma ve sağlam Ar-Ge desteği ile Vetek Semiconductor, hassas bileşenler için OEM/ODM hizmetlerinde mükemmeldir.

ALD işlemi, atomik katman epitaksi işlemi anlamına gelir. Vetek Semiconductor ve ALD sistemi üreticileri, hava akışını substrat üzerinde eşit olarak dağıtmak için ALD sürecinin yüksek gereksinimlerini karşılayan SIC kaplamalı ALD gezegensel duyucuları geliştirmiş ve üretmiştir. Aynı zamanda, yüksek saflıkta CVD sic kaplamamız süreçte saflık sağlar. Bizimle işbirliğini tartışmaya hoş geldiniz.