Silisyum Karbür Kaplama

Veteksemicon SiC Kaplamalı Epitaksiyel Reaktör odası, zorlu yarı iletken epitaksiyel büyüme süreçleri için tasarlanmış bir çekirdek bileşendir. Gelişmiş kimyasal buhar biriktirme (CVD) kullanan bu ürün, yüksek mukavemetli bir grafit alt tabaka üzerinde yoğun, yüksek saflıkta bir SiC kaplama oluşturarak üstün yüksek sıcaklık stabilitesi ve korozyon direnci sağlar. Yüksek sıcaklıktaki proses ortamlarında reaktif gazların aşındırıcı etkilerine etkili bir şekilde direnç gösterir, partikül kirliliğini önemli ölçüde bastırır, tutarlı epitaksiyel malzeme kalitesi ve yüksek verim sağlar ve reaksiyon odasının bakım döngüsünü ve ömrünü önemli ölçüde uzatır. SiC ve GaN gibi geniş bant aralıklı yarı iletkenlerin üretim verimliliğini ve güvenilirliğini artırmak için önemli bir seçimdir.

Silisyum karbür epitaksiyel büyümenin temel sürecinde Veteksemicon, suseptör performansının epitaksiyel katmanın kalitesini ve üretim verimliliğini doğrudan belirlediğinin bilincindedir. SiC alanı için özel olarak tasarlanan yüksek saflıkta EPI sensörlerimiz, özel bir grafit alt tabaka ve yoğun bir CVD SiC kaplama kullanır. Üstün termal kararlılıkları, mükemmel korozyon direnci ve son derece düşük parçacık üretim hızıyla, zorlu yüksek sıcaklıktaki proses ortamlarında bile müşteriler için benzersiz kalınlık ve katkılama eşitliği sağlarlar. Veteksemicon'u seçmek, gelişmiş yarı iletken üretim süreçleriniz için güvenilirlik ve performansın temel taşını seçmek anlamına gelir.

ASM için Veteksemicon SiC kaplı grafit tutucu, yarı iletken epitaksiyel işlemlerde çekirdek taşıyıcı bir bileşendir. Bu ürün, yüksek sıcaklık ve aşındırıcı proses ortamlarında üstün performans ve ultra uzun kullanım ömrü sağlamak için tescilli pirolitik silisyum karbür kaplama teknolojimizi ve hassas işleme proseslerimizi kullanır. Epitaksiyel proseslerin alt tabaka saflığı, termal kararlılık ve tutarlılık konusundaki katı gerekliliklerini derinden anlıyoruz ve müşterilerimize genel ekipman performansını artıran istikrarlı, güvenilir çözümler sunmaya kendimizi adadık.

Veteksemicon odak halkası, özellikle SiC aşındırma uygulamaları olmak üzere zorlu yarı iletken aşındırma ekipmanları için özel olarak tasarlanmıştır. Elektrostatik aynanın (ESC) çevresine, levhanın yakınına monte edilen bu parçanın birincil işlevi, reaksiyon odası içindeki elektromanyetik alan dağılımını optimize ederek tüm levha yüzeyi boyunca düzgün ve odaklanmış plazma hareketi sağlamaktır. Yüksek performanslı odak halkası, aşındırma hızı tekdüzeliğini önemli ölçüde artırır ve kenar etkilerini azaltarak ürün verimini ve üretim verimliliğini doğrudan artırır.

LED Aşındırma İçin Veteksemicon Silisyum Karbür Taşıyıcı Plaka, LED çip üretimi için özel olarak tasarlanmış olup, aşındırma işleminde kullanılan bir çekirdek sarf malzemesidir. Hassas sinterlenmiş yüksek saflıkta silisyum karbürden yapılmıştır, olağanüstü kimyasal direnç ve yüksek sıcaklıkta boyutsal stabilite sunar, güçlü asitler, bazlar ve plazmadan kaynaklanan korozyona etkili bir şekilde direnç gösterir. Düşük kirlenme özellikleri, LED epitaksiyel levhalar için yüksek verim sağlarken, geleneksel malzemelerinkini çok aşan dayanıklılığı, müşterilerin genel işletme maliyetlerini azaltmasına yardımcı olarak, onu gravür prosesi verimliliğini ve tutarlılığını geliştirmek için güvenilir bir seçim haline getiriyor.

Veteksemi katı SiC odak halkası, levha kenarındaki elektrik alanını ve hava akışını hassas bir şekilde kontrol ederek dağlama homojenliğini ve proses stabilitesini önemli ölçüde artırır. Silikon, dielektrik ve bileşik yarı iletken malzemelere yönelik hassas aşındırma işlemlerinde yaygın olarak kullanılır ve seri üretim verimi ve ekipmanın uzun vadeli güvenilir çalışmasını sağlamak için önemli bir bileşendir.